[发明专利]成膜装置在审
| 申请号： | 201910147039.9 | 申请日： | 2019-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN110241390A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 足立耕一 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/04;C23C14/18 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 汪飞亚;习冬梅 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 加工 空气喷射 粒子捕获 成膜材料 成膜装置 粒子附着 有效地 滚花 熔射 粒子 捕获粒子 成膜室 粗糙度 附着 捕获 | ||
【权利要求书】：
1.一种成膜装置，其是具有成膜室，在该成膜室内进行用以将成膜材料成膜于被成膜材料上的处理的成膜装置，其特征在于，
所述成膜室具有用以捕获粒子的粒子捕获部，
对该粒子捕获部实施了滚花加工，在该滚花加工后实施了空气喷射加工，且在该空气喷射加工后实施了熔射加工。
2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于：
所述粒子捕获部在所述熔射加工中熔射铝。
3.如权利要求2所述的成膜装置，其特征在于：
所述粒子捕获部通过所述熔射加工将表面的算术平均粗糙度设为25μm以上、30μm以下。
4.如权利要求1至3中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
该成膜装置具有覆盖该成膜材料的周边以防止溅射所述成膜材料以外的材料的屏蔽构件，
将该屏蔽构件的表面作为所述粒子捕获部。
5.如权利要求1至4中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
该成膜装置为了在所述被成膜材料的规定范围中形成成膜材料的膜，而具有覆盖该被成膜材料的规定范围以外部分的掩模构件，
将该掩模构件的表面作为所述粒子捕获部。
6.如权利要求1至5中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
将所述成膜室的内壁作为所述粒子捕获部。
7.如权利要求1至6中任一项所述的成膜装置，其特征在于：
该成膜装置具有保持所述成膜材料的成膜材料保持体，
将该成膜材料保持体的表面作为所述粒子捕获部。
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