[发明专利]磁控溅射靶

权利要求书

1.一种磁控溅射靶，其特征在于，包括靶头(1)、靶芯主体(14)、靶材筒(6)，所述靶芯主体(14)容置在所述靶材筒(6)内，所述靶头(1)与所述靶芯主体(14)连接；

所述磁控溅射靶还包括：冷却结构，所述靶头(1)上设有第一口(28)和第二口(29)，所述冷却结构包括相互连通的第一腔(26)和第二腔(13)，所述第一腔(26)位于所述靶芯主体(14)内部，所述第二腔(13)位于所述靶材筒(6)与所述靶芯主体(14)之间，所述第一腔(26)与所述靶头(1)上的所述第一口(28)连通，所述第二腔(13)与所述靶头(1)上的所述第二口(29)连通。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述第一口(28)为出液口(281)，所述第二口(29)为进液口(291)。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述靶芯主体(14)上设有孔(11)，所述第一腔(26)与所述第二腔(13)通过所述孔(11)连通。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述靶芯主体(14)包括靶基座(2)和靶面体(3)，所述靶基座(2)和所述靶面体(3)之间围成所述第一腔(26)，所述靶头(1)与所述靶基座(2)可拆卸地连接，所述孔(11)设置于所述靶面体(3)。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述冷却结构还包括设于靶基座(2)内的第一进液通道(25)和槽孔(24)，

所述第一进液通道(25)与所述靶头(1)的出液口(281)连通，所述第一进液通道(25)通过所述槽孔(24)与所述第一腔(26)连通。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射靶，其特征在于，

沿所述靶基座(2)的长度方向，所述第一进液通道(25)贯穿所述靶基座(2)。

7.根据权利要求6所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述冷却结构还包括设于所述靶基座(2)内的第一回液通道(27)，

所述第二腔(13)通过所述第一回液通道(27)与所述靶头(1)上的进液口(291)连通。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述磁控溅射靶还包括靶堵头(4)，所述靶堵头(4)与所述靶头(1)分别设于所述靶基座(2)的两端，所述靶堵头(4)与所述靶基座(2)可拆卸地连接，所述靶堵头(4)上设有回液孔(12)，所述回液孔(12)用于连通所述第二腔(13)和所述第一回液通道(27)。

9.根据权利要求8所述的磁控溅射靶，其特征在于，沿所述靶基座(2)的长度方向，所述第一回液通道(27)贯通所述靶基座(2)以与所述回液孔(12)连通。

10.根据权利要求5所述的磁控溅射靶，其特征在于，

所述孔(11)的数量为多个，多个所述孔(11)设于所述靶面体(3)上背离所述靶头(1)的一端；和/或，

所述槽孔(24)为长方体，且所述槽孔(24)的数量为多个，多个所述槽孔(24)沿所述靶基座(2)的长度方向设置。

11.根据权利要求2-10任一项所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述冷却结构还包括设于所述靶头(1)内的第二进液通道(9)和第二回液通道(10)，所述第二进液通道(9)与所述出液口(281)连通，所述第二回液通道(10)与所述进液口(291)连通。

12.根据权利要求1-10任一项所述的磁控溅射靶，其特征在于，还包括冷却液供给装置，所述靶头(1)一端的端头上设有连接螺纹(7)，所述靶头(1)通过所述连接螺纹(7)与所述冷却液供给装置连接，所述靶头(1)设有连接螺纹(7)的一端的端面上设有定位凸块(8)，所述定位凸块(8)用于对所述靶头(1)和所述冷却液供给装置连接前进行定位。

13.根据权利要求1-10任一项所述的磁控溅射靶，其特征在于，所述磁控溅射靶还包括密封部件，所述靶材筒(6)的一端设有开口，所述靶头(1)的一端从所述开口中伸出，所述密封部件设于所述靶头(1)伸出所述靶材筒(6)的部分上，所述密封部件用于密封所述开口与所述靶头(1)之间的间隙。