[发明专利]一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂及该电解铜箔的生产工艺

说明书

本发明为进一步提高6μm电解铜箔的抗拉强度，提供一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂，所述添加剂由浓度为5‑10g/L的聚乙二醇水溶液、浓度为2‑5g/L的FESS水溶液、浓度为4‑8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4‑8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液组成，且在电沉积生成铜箔时，所述添加剂四种组分的水溶液分别按聚乙二醇为150‑200mL/min，FESS为50‑100mL/min，低分子胶为50‑100mL/min，聚二硫二丙烷磺酸钠为150‑200mL/min的流量加入到硫酸铜电解液中，且硫酸铜电解液的硫酸铜电解液的上液流量为40‑60m³/h。本发明所生产的铜箔的高温抗拉强度在500MPa以上。

技术领域

本发明属于电解铜箔技术领域，具体涉及一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂及该电解铜箔的生产工艺。

背景技术

电解铜箔是电子行业的重要基础材料之一，在电子行业应用广泛。随着电动汽车行业的快速发展，锂电池的需求迅速增加，铜箔作为锂电池负极集流器的主要材料，其性能对锂电池性能起着极其重要的作用。锂电池生产厂家对于铜箔的性能需求不断提高，对高抗拉的电解铜箔有着极大的需求。

由于6μm双光电解铜箔具有体积小、容量大的优点，以大量应用于电池的生产。目前国内生产仅有几家6μm双光高抗拉电解铜箔，但抗拉强度均在500MPa以下，无法满足客户对铜箔更高抗拉强度的需求。

发明内容

本发明为进一步提高6μm电解铜箔的抗拉强度，提供一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂，所生产的铜箔的高温抗拉强度在500MPa以上。

本发明采用如下技术方案：

一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂，所述添加剂由浓度为5-10g/L 的聚乙二醇水溶液、浓度为2-5g/L 的FESS水溶液、浓度为4-8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4-8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液组成，且在电沉积生成铜箔时，所述添加剂四种组分的水溶液分别按聚乙二醇为150-200mL/min，FESS为50-100mL/min，低分子胶为50-100mL/min，聚二硫二丙烷磺酸钠为150-200mL/min的流量加入到硫酸铜电解液中，且硫酸铜电解液的硫酸铜电解液的上液流量为40-60m³/h。

优选地，所述低分子胶为分子量小于3000的胶原蛋白。

优选地，所述FESS购自江苏梦得电镀化学品有限公司，产品名称为铜箔中间体，产品代号为FESS，产品展示网址。

利用上述6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂生产电解铜箔的工艺，首先调节硫酸铜电解液中的铜离子浓度为70-100g/L，H₂SO₄浓度为80-130g/L，氯离子浓度为25-35ppm，硫酸铜电解液温度为45-55℃，并按所述流量加入所述添加剂，然后在所述硫酸铜电解液的上液流量的条件下，利用生箔机进行电沉积，从而生成所述6μm双光高抗拉电解铜箔。

优选地，电沉积时，电流密度为4000-6000A/m²。

本发明的有益效果如下：

本发明的添加剂主要是通过聚乙二醇与FESS的合适配比，达到细化晶粒的技术效果，从而提高铜箔的高温抗拉强度。

在铜箔高温抗拉达到500MPa以上后，仅需通过调整低分子胶与聚二硫二丙烷磺酸钠，控制箔面表观与亮度，稳定运行即可，操作简单，而且本发明生产的6μm双光高抗拉电解铜箔，高温抗拉强度提高的同时，延伸率也保持在4%以上，完全满足市场对铜箔的要求，技术附加值高，利于提升企业的竞争力。

附图说明

图1为采用实施例1制备铜箔M面×500倍SEM照片；

图2为采用实施例2制备铜箔M面×500倍SEM照片；