[发明专利]缺陷观察设备晶圆载台精度偏移的补偿方法

说明书

本发明涉及缺陷观察设备晶圆载台精度偏移的补偿方法，涉及半导体芯片制造工艺，包括将缺陷位置信息文件传送至缺陷观察设备端；缺陷观察设备对缺陷位置信息文件内的缺陷进行缺陷检测，且在缺陷检测过程中结合其自身的缺陷自动分类功能对符合收集晶圆载台精度条件的缺陷进行筛选，生成符合收集晶圆载台精度条件的缺陷数据库；将晶圆划分成多个晶圆载台精度偏移监控区域，收集缺陷数据库内落在监控区域内的缺陷在缺陷检测过程中晶圆载台的偏移矢量，建立晶圆载台的偏移矢量数据库；若缺陷检测过程中缺陷超出检测窗口，则缺陷观察设备将根据该缺陷所在的监控区域在晶圆载台的偏移矢量数据库中的晶圆载台的偏移矢量进行自动校准，以保证晶圆正常生产。

技术领域

本发明涉及半导体芯片制造工艺，尤其涉及一种缺陷观察设备晶圆载台精度偏移的补偿方法。

背景技术

在半导体芯片制造工艺中，缺陷检测在半导体芯片制造过程中是必不可少，且非常关键的步骤，通过缺陷检测可提高半导体芯片的良率，降低生产成本。

其中，缺陷检测扫描电镜在分析缺陷、减少缺陷，提升良率的过程中发挥着重要的作用。但随着集成电路工艺的发展，关键尺寸日益变小，缺陷检测扫描电镜的可视化观测窗口(FOV，field of view,FOV1代表1um*1um的视野窗口)必须随之缩小，提高放大倍率，才能观测清楚缺陷。但提高放大倍率的同时，对缺陷检测扫描电镜晶圆载台精度要求也随之提高，否则易出现缺陷脱离检测窗口的情况，令缺陷影像检测效率与准确性大打折扣。由此，如何实时、持续地监控缺陷检测扫描电镜晶圆载台精度偏移矢量，并对该晶圆载台精度偏移实时补偿，以保证晶圆正常生产，将变得至关重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种缺陷观察设备晶圆载台精度偏移的补偿方法，以对缺陷观察设备晶圆载台精度实时、持续地监控，并实时补偿，提高缺陷影像检测定位的稳定性，保证晶圆正常生产。

本发明提供的缺陷观察设备晶圆载台精度偏移的补偿方法，包括：S1：提供待检测晶圆；S2：通过缺陷检测设备，对晶圆进行缺陷扫描，并根据缺陷扫描结果生成缺陷位置信息文件；S3：将缺陷位置信息文件传送至缺陷观察设备端；S4：缺陷观察设备对缺陷位置信息文件内的缺陷进行缺陷检测，且在缺陷检测过程中结合其自身的缺陷自动分类功能对符合收集晶圆载台精度条件的缺陷进行筛选，生成符合收集晶圆载台精度条件的缺陷数据库；S5：将晶圆划分成多个晶圆载台精度偏移监控区域，收集缺陷数据库内落在监控区域内的缺陷在缺陷检测过程中晶圆载台的偏移矢量，建立晶圆载台的偏移矢量数据库；以及S6：若缺陷检测过程中缺陷超出检测窗口，则缺陷观察设备将根据该缺陷所在的监控区域在晶圆载台的偏移矢量数据库中的晶圆载台的偏移矢量进行自动校准。

更进一步的，所述缺陷位置信息文件为缺陷的坐标信息文件。

更进一步的，所述符合收集晶圆载台精度条件的缺陷为缺陷形貌具有明显边缘的缺陷。

更进一步的，所述符合收集晶圆载台精度条件的缺陷为缺陷尺寸小于当前缺陷检测条件下缺陷观察设备的可视化检测窗口尺寸的缺陷。

更进一步的，在缺陷观察设备对缺陷位置信息文件内的缺陷进行缺陷检测过程中，采用缺陷观察设备的自动分类功能对符合收集晶圆载台精度条件的缺陷进行实时筛选。

更进一步的，所述落在监控区域内的缺陷为缺陷观察设备按照缺陷位置信息文件中的缺陷位置信息在检测窗口对缺陷初次定位的位置落在该监控区域内。

更进一步的，在缺陷检测过程中，缺陷观察设备按照缺陷位置信息文件中的缺陷位置信息在检测窗口对缺陷初次定位，位置定义为(a1,b1)，经缺陷观察设备晶圆载台自动校准，将缺陷在检测窗口中居中后的位置定义为(a2,b2)，则晶圆载台的偏移矢量α＝(a1-a2,b1-b2)。