[发明专利]一种掩模台及光刻系统

说明书

本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种掩模台和光刻系统，其中掩模台包括：支撑底座；承版台，滑动连接在支撑底座的上端面上；两组Y向运动机构，设置在支撑底座上，且两组Y向运动机构分别设置在承版台沿X方向的两侧；X向运动机构，设置在Y向运动机构上且与承版台连接，Y向运动机构带动X向运动机构沿Y方向运动，Y方向与X方向垂直。光刻系统包括上述掩模台。本发明公开的掩模台和光刻系统，能够减小掩模台和光刻系统的体积，降低掩模台和光刻系统的成本。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种掩模台机构及光刻系统。

背景技术

光刻系统主要用于集成电路IC或其他微型器件的制造，通过光刻设备，能够把具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准下依次成像在涂覆有光刻胶的硅片或基板上，如半导体晶片或LCD板等。光刻系统通常分为步进光刻系统和步进扫描光刻系统，其中，步进扫描光刻系统通过投影光场的扫描移动成像，在掩模图像成像过程中，掩模与晶片同时相对于投影系统和投影光束移动。因此，对于步进扫描光刻系统，需要相应的装置作为掩模版和硅片的载体，通过装载有掩模版及硅片的载体之间相对的精确运动来满足光刻的需要，其中，用于承载掩模版的载体为承版台，用于承载硅片/基板的载体称为承片台，承版台和承片台分为位于光刻系统的掩模台分系统和工作台分系统中，为各自分系统的核心模块。

由于光刻系统运行过程中，承版台要进行扫描方向的大行程运动和各向的微调运动，以满足承版台的高速高精度运动要求，因此，传统掩模台系统通常采用粗-精动叠层的驱动结构。图1为现有技术提供的掩模台系统的结构示意图，如图1所示，现有技术提供的掩模台系统由粗动台150和叠加在上面的精动台140组成。其中，粗动台150采用左直线电机130和右直线电机120及导轨160组成高速大行程的双边驱动系统；精动台140则由X方向音圈电机170和Y方向音圈电机180驱动，对掩模台进行实时高精度的微调，满足运动精度的要求。

现有技术提供的掩模台系统，由于微动态及微动驱动装置均设置在粗动台上，且由粗动驱动装置驱动，一方面增加了粗动台的尺寸，从而造成掩模台整体结构尺寸的增大，不利于掩模台系统的小型化设置，另一方面增加了粗动驱动装置的驱动负担，造成成本的增加和运动精度的降低。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种掩模台，减小掩模台的尺寸，降低掩模台的运行成本。

本发明的另一个目的在于提供一种光刻系统，减小光刻系统的体积，降低光刻成本。

为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：

一种掩模台，包括：

支撑底座；

承版台，滑动连接在所述支撑底座的上端面上；

两组Y向运动机构，设置在所述支撑底座上，且两组所述Y向运动机构分别设置在所述承版台沿X方向的两侧；

X向运动机构，设置在所述Y向运动机构上且与所述承版台连接，所述Y向运动机构带动所述X向运动机构沿Y方向运动，所述Y方向与所述X方向垂直。

进一步地，所述支撑底座具有第一安装面和第二安装面，所述第一安装面和所述第二安装面均与X方向和Y方向形成的平面平行，所述第一安装面高于所述第二安装面，且所述承版台设置在所述第一安装面上，所述Y向运动机构设置在所述第二安装面上。

进一步地，所述X向运动机构和所述Y向运动机构通过转动调节组件连接。

进一步地，所述转动调节组件包括转换轴承，所述X向运动机构和所述Y向运动机构中的一个与所述转换轴承的内圈连接，另一个与所述转换轴承的外圈连接，所述转换轴承的轴线分别与所述X方向及所述Y方向垂直。

进一步地，所述Y向运动机构包括：