[发明专利]一种微弧氧化电解液及微弧氧化方法

权利要求书

1.一种微弧氧化电解液，其特征是，包括如下组分及其重量配比：磷酸盐30-50g/L，硅酸盐为5-15g/L，成膜剂5-10g/L，溶于去离子水中，其中成膜剂为草酸盐。

2.一种微弧氧化电解液，其特征是，包括如下组分及其重量配比：磷酸盐30-50g/L，成膜剂5-10g/L和PH调整剂，溶于为去离子水中，其中成膜剂为草酸盐，PH调整剂为硅酸盐且其重量配比适于将所述电解液的PH值调整为7.0-8.0。

3.根据权利要求2所述的微弧氧化电解液，其特征是，所述硅酸盐的重量配比为5-15g/L

4.根据权利要求1至3中任一项所述的微弧氧化电解液，其特征是，所述的磷酸盐为六偏磷酸钠和/或焦磷酸钠；和/或，所述的硅酸盐为硅酸钠和/或硅酸钾；和/或，草酸盐为草酸钛钾和/或草酸钛胺。

5.一种制备根据权利要求1至4之一所述的微弧氧化电解液的方法，其特征是，将磷酸盐以30-50g/L的浓度加入去离子水中搅拌至完全溶解，加入硅酸盐搅拌溶解和加入5-10g/L的浓度的成膜剂搅拌溶解，静置8-24小时后使用。

6.一种微弧氧化方法，其特征是，包括如下步骤：

将轻金属物件置入装有根据权利要求1至4之一所述电解液的电解槽内，物件接阳极或作为阳极，优选地被夹持在电解槽的阳极铜排上，不锈钢板做阴极；

接通微弧氧化电源以进行微弧氧化处理从而在所述轻金属物件表面形成致密的陶瓷氧化膜，优选地陶瓷氧化膜的厚度为10μm-15μm。

7.根据权利要求6所述的微弧氧化方法，其特征是，在微弧氧化处理时将电解槽内电解液温度保持在20-40℃，优选地还包括开启制冷系统以在微弧氧化处理时将电解槽内电解液温度保持在20-40℃。

8.根据权利要求6或7所述的微弧氧化方法，其特征是，微弧氧化处理时间为10-20min，且其中平均电流1-2A/dm²，占空比3-20％，频率500-1000Hz，和/或电压450-650V。

9.根据权利要求5至8中任一项所述的微弧氧化方法，其特征是，在将轻金属物件置入电解槽之前还包括预处理步骤，优选地所述预处理步骤包括将所述轻金属物件置入清洗槽内，优选通过超声波和/或酸除去表面油污及浮尘；

优选地，所述轻金属物件是铝、镁、钛和/或其合金物件，优选地为铝合金物件并用作臭氧发生器的板式地电极或高压电极板，更优选地具有100mmx50mmx2mm的尺寸。

10.一种板式臭氧发生器的地电极或高压电极板，其特征是，包括轻金属基体、优选铝合金基体和根据权利要求5至9中任一项所述的微弧氧化方法制成的陶瓷氧化膜，优选厚度为10μm-15μm。