[发明专利]滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备在审

专利信息
申请号: 201910165758.3 申请日: 2019-03-05
公开(公告)号: CN109655954A 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 陆张武;王迎;徐征驰;李恭剑 申请(专利权)人: 浙江水晶光电科技股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G06K9/00;C23C14/35;C23C14/10;C23C14/06
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 董艳芳
地址: 318000 浙江省台州市椒*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 滤光片 长波通膜 模组 电子设备 膜系结构 指纹识别 中心波长 过渡带 制备 光学薄膜技术领域 截止 低折射率膜层 高折射率膜层 指纹传感器 高透过率 基底两侧 透明 基底 通带 改进
【说明书】:

发明提供了一种滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备,涉及光学薄膜技术领域,该滤光片包括透明基底以及分别设置在透明基底两侧的第一长波通膜系和第二长波通膜系;第一长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^10,过渡带中心波长为700‑900nm;第二长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^14,过渡带中心波长为780‑900nm;其中,H对应高折射率膜层,L对应低折射率膜层。该滤光片在830‑950nm谱段具有高透过率,同时在300‑750nm谱段宽截止,大大改进了该谱段滤光片的通带及截止带的特性,从而能够满足指纹传感器模组的使用要求。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域,尤其是涉及一种滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备。

背景技术

目前手机等电子产品的指纹传感器模组中,亟需一种满足以下要求的滤光片:

(1)在830-950nm谱段具有高透过率;

(2)在300-750nm谱段具有抑制光信号的作用,以减少信号噪声的影响;

(3)在低温(-40℃)、高温(+85℃)、高湿(90%)及冷热循环变化的环境长时间放置后仍然可以使用;

(4)基底厚度小(<0.3mm),以满足模组整体结构的微型化要求;

(5)在轻微外力反复摩擦(压力<5N)下,膜层无损伤;

(6)在酒精乙醚混合液(酒精:乙醚=1:2)轻微反复擦拭下,膜层无损伤;

(7)在高温纯水(>95℃)里浸泡2小时以上,拉膜(使用CT-18胶带)后膜层无脱落。

然而现有技术中未有在830-950nm谱段具有高透过率,同时在300-750nm谱段宽截止的近红外滤光片,无法满足在指纹传感器模组中的使用要求。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备,以实现滤光片在830-950nm谱段具有高透过率,同时在300-750nm谱段宽截止。

第一方面,本发明实施例提供了一种滤光片,包括透明基底以及分别设置在所述透明基底两侧的第一长波通膜系和第二长波通膜系;

所述第一长波通膜系和所述第二长波通膜系均包括交替叠加的高折射率膜层和低折射率膜层;所述第一长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^10,所述第一长波通膜系的过渡带中心波长为700-900nm;所述第二长波通膜系的膜系结构包括(0.5HL0.5H)^14,所述第二长波通膜系的过渡带中心波长为780-900nm;其中,H对应所述高折射率膜层,L对应所述低折射率膜层。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,所述高折射率膜层的材质包括氢化硅或氮化硅。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,所述低折射率膜层的材质包括氧化硅。

结合第一方面,本发明实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,所述透明基底的材质包括玻璃、石英、蓝宝石或硅酸盐光学玻璃。

结合第一方面的第三种可能的实施方式,本发明实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,所述透明基底的平行度小于30″。

第二方面,本发明实施例还提供一种滤光片的制备方法,包括:

在透明基底的两侧分别形成第一长波通膜系和第二长波通膜系,得到滤光片;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江水晶光电科技股份有限公司,未经浙江水晶光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910165758.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top