[发明专利]一种用于旋转阴极的液密封结构及真空磁控溅射装置有效

专利信息
申请号: 201910168258.5 申请日: 2019-03-06
公开(公告)号: CN110042351B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 张迎春;张源 申请(专利权)人: 张迎春
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京清源汇知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11644 代理人: 冯德魁;窦晓慧
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 旋转 阴极 密封 结构 真空 磁控溅射 装置
【权利要求书】:

1.一种用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,包括固定件,第一密封环、第二密封环、压环、靶材端法兰以及弹性件;

其中,所述靶材端法兰包括法兰盘以及由法兰盘一端向外的筒结构;

所述第一密封环、第二密封环、压环、靶材端法兰的筒结构同轴设置;

所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构,另一端与第二密封环平面接触;所述第二密封环另一端与压环相抵接;

弹性件设置于所述法兰盘与所述压环之间,两端分别抵接所述法兰盘与所述压环,并在装配后呈压缩状态;

所述靶材端法兰的筒结构套接于所述压环和第二密封环外侧,并与二者密封接触;

所述靶材端法兰、压环以及第二密封环共同套接于固定件的圆柱体上,与所述圆柱体之间的空腔构成冷却液体的容纳空间。

2.根据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构具体为由该端向外突出的花键,相应的固定件上设置有键槽。

3.根据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述第一密封环的一端设置有与固定件连接的键结构具体为设置于该端的键槽,相应的固定件上设置有向外突出的花键。

4.根据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述压环和第二密封环之间设置有静密封结构。

5.根据权利要求4所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述静密封结构为橡胶密封圈。

6.根据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述弹性件为弹簧。

7.根据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述法兰盘与所述法兰盘一端向外的筒结构为一体成型结构。

8.据权利要求1所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述法兰盘与所述法兰盘一端向外的筒结构为分体式结构,二者之间通过花键相连接。

9.根据权利要求1至8任一所述的用于旋转阴极的液密封结构,其特征在于,所述第一密封环、第二密封环为陶瓷材料。

10.一种真空磁控溅射装置,其特征在于,包括上述权利要求1至9任一液密封结构。

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