[发明专利]检测缺陷点聚集性的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910169245.X 申请日: 2019-03-06
公开(公告)号: CN109886956B 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 杨姗姗;胡龙敢;冯玉春 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/11
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 王伟锋;刘铁生
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 检测 缺陷 聚集 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种检测缺陷点聚集性的方法,其特征在于,所述方法包括:

获取待检测缺陷点图、分区方式、分区数量及方差阈值,其中,所述分区方式为竖向分区方式、横向分区方式、正斜分区方式、负斜分区方式中的任意一种;

根据所述分区方式及所述分区数量对所述待检测缺陷点图进行区域分割处理,以获得多个分区;

确定每个所述分区对应的缺陷点数量,并根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值;

计算多个所述归一化占比值对应的方差值;

判断所述方差值是否大于所述方差阈值;

若是,则确定所述待检测缺陷点图中的缺陷点具有聚集性。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分区方式为竖向分区方式或横向分区方式;所述根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值,包括:

根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算所述待检测缺陷点图对应的缺陷点数量;

计算每个所述分区对应的缺陷点数量占所述待检测缺陷点图对应的缺陷点数量的比值,以获得每个所述分区对应的归一化占比值。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分区方式为正斜分区方式或负斜分区方式;所述根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值,包括:

确定所述待检测缺陷点图对应的面积以及每个所述分区对应的面积;

将每个所述分区对应的缺陷点数量、每个所述分区对应的面积以及所述待检测缺陷点图对应的面积代入预设算法中,计算每个所述分区对应的归一化占比值。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,在所述根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值之后,所述方法还包括:

使用预设放大倍数对每个所述归一化占比值进行放大处理;

计算所述预设放大倍数的平方值,并使用所述平方值对所述方差阈值进行放大处理;

所述计算多个所述归一化占比值对应的方差值,包括:

计算经过放大处理后的多个所述归一化占比值对应的方差值;

所述判断所述方差值是否大于所述方差阈值,包括:

判断经过放大处理后的多个所述归一化占比值对应的方差值是否大于经过放大处理后的所述方差阈值。

5.一种检测缺陷点聚集性的装置,其特征在于,所述装置包括:

获取单元,用于获取待检测缺陷点图、分区方式、分区数量及方差阈值,其中,所述分区方式为竖向分区方式、横向分区方式、正斜分区方式、负斜分区方式中的任意一种;

区域分割单元,用于根据所述获取单元获取的所述分区方式及所述分区数量对所述待检测缺陷点图进行区域分割处理,以获得多个分区;

第一确定单元,用于确定每个所述分区对应的缺陷点数量;

第一计算单元,用于根据所述第一确定单元确定的每个所述分区对应的缺陷点数量计算每个所述分区对应的归一化占比值;

第二计算单元,用于计算多个所述归一化占比值对应的方差值;

判断单元,用于判断所述第二计算单元计算的所述方差值是否大于所述方差阈值;

第二确定单元,用于当所述判断单元判断所述方差值大于所述方差阈值时,确定所述待检测缺陷点图中的缺陷点具有聚集性。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述分区方式为竖向分区方式或横向分区方式;所述第一计算单元包括:

第一计算模块,用于根据每个所述分区对应的缺陷点数量计算所述待检测缺陷点图对应的缺陷点数量;

第二计算模块,用于计算每个所述分区对应的缺陷点数量占所述待检测缺陷点图对应的缺陷点数量的比值,以获得每个所述分区对应的归一化占比值。

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