[发明专利]框架一体型掩模的制造方法

说明书

本发明涉及一种框架一体型掩模的制造方法。本发明涉及框架一体型掩模的制造方法，该框架一体型掩模由至少一个掩模(100)与用于支撑掩模(100)的框架(200)形成为一体，其包括以下步骤：(a)提供具有至少一个掩模单元区域(CR)的框架(200)；(b)使掩模(100)与框架(200)的掩模单元区域(CR)对应；(c)将包括框架(200)的工艺区域的温度提升至第一温度(ET)；(d)将掩模(100)的边缘的至少一部分粘合到框架(200)；以及(e)将包括框架(200)的工艺区域的温度降低至第二温度(LT)。

技术领域

本发明涉及一种框架一体型掩模的制造方法。更加详细而言，涉及能够将掩模与框架形成一体，并且能够使各个掩模之间的对准(align)精确的框架一体型掩模的制造方法。

背景技术

最近，正在进行薄板制造中的有关电铸(Electroforming)方法的研究。电铸方法是在电解液中浸渍阳极和阴极，并施加电源，使金属薄板在阴极的表面上电沉积，因而是能够制造电极薄板并且有望大量生产的方法。

另一方面，作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术，主要使用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩模)方法，该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask，阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。

在现有的OLED制造工艺中，将掩模制造成条状、板状等后，将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具备与一个显示器对应的多个单元。另外，为了制造大面积OLED，可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架，在固定于框架的过程中，拉伸各个掩模，以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是，为了使各个单元全部变得平坦，同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案，需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。

尽管如此，在将多个掩模固定于一个框架过程中，仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外，在将掩模焊接固定于框架的过程中，掩模膜的厚度过薄且面积大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题。

在超高清的OLED中，现有的QHD(Quarter High Definition，四分之一高清)画质为500-600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30-50μm，而4K UHD(Ultra High Definition，超高清)、8K UHD高清具有比之更高的～860PPI，～1600PPI等的分辨率。如此，考虑到超高清的OLED的像素尺寸，需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm程度，超出这一误差将导致产品的不良，所以收率可能极低。因此，需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术，以及将掩模固定于框架的技术等。

发明内容

技术问题

因此，本发明是为了解决上述现有技术中的问题而提出的，其目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造方法，能够形成掩模与框架的一体式结构。

另外，本发明的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造方法，能够防止掩模下垂或者扭曲等变形并且使对准精确。

另外，本发明的目的在于，提供一种框架一体型掩模的制造方法，显著缩短制造时间，并且显著提升收率。

技术方案

本发明的上述目的通过一种框架一体型掩模的制造方法达成，该方法将至少一个掩模与用于支撑掩模的框架形成一体，其包括以下步骤：(a)提供具有至少一个掩模单元区域的框架；(b)使掩模与框架的掩模单元区域对应；(c)将包括框架的工艺区域的温度提升至第一温度；(d)将掩模的边缘的至少一部分粘合到框架；以及(e)将包括框架的工艺区域的温度降低至第二温度。