[发明专利]一种无色莫桑石的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910173192.9 申请日: 2019-03-07
公开(公告)号: CN109911899B 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 刘欣宇;袁振洲 申请(专利权)人: 江苏超芯星半导体有限公司
主分类号: C01B32/956 分类号: C01B32/956
代理公司: 南京源点知识产权代理有限公司 32545 代理人: 黄启兵
地址: 211500 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 无色 莫桑石 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种无色莫桑石的制备方法,包括:将高纯半绝缘碳化硅晶片放入坩埚,装炉并设置生长参数,通过加热所述坩埚,所述高纯半绝缘晶片升华而在坩埚顶部进行再结晶,冷却出炉得到无色莫桑石。其中所述生长参数为:温度在2000~2300℃,压力在1~700 Torr。成功解决了原料氮含量掺杂、莫桑石颜色灰黄、不合格碳化硅晶片再利用的问题。提高了碳化硅不合格晶片利用率,并获得无色莫桑石。

技术领域

本发明涉及莫桑石生产技术领域,具体涉及一种无色莫桑石的制备方法。

背景技术

莫桑石,化学成分碳化硅。因外观与天然钻石极为相似,价格便宜,受到广泛关注。目前市场上大部分莫桑石为人工合成。

现有技术,莫桑石在人工合成过程中,通常采用碳化硅粉料,或者碳粉和硅粉作为原料,采用物理气相传输法进行合成生长。(1)原料纯度及杂质。即便高纯粉料也有B、Al、Vr、N等杂质;(2)工艺过程掺杂。由于原料呈颗粒状,粒径不一,堆积在生长坩埚中间隙较多。装炉过程中会有杂质渗入,如空气,其中含有大量的氮气。并且在莫桑石生长的抽气过程中,难以完全去除。最终,杂质掺杂到莫桑石晶体里,影响莫桑石的质量及成色。例如氮原子作为浅施主掺杂物,导致莫桑石颜色偏灰黄。若要避免氮掺杂,去除粉料中的氮原子,需要加提纯装置或工艺,既增加了成本又加大了时间。

因此,采用传统方法制备的莫桑石颜色级别低、良率低,无法完全满足市场需求。

如何避免掺杂、工艺简化地制备无色莫桑石,并提高良率,是本技术领域急需解决的技术问题。

发明内容

针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种无色莫桑石的制备方法,解决了掺杂多、工艺繁琐、无色莫桑石制备难、良率低的问题。

为实现上述目的,本发明提供了一种无色莫桑石的制备方法,所述方法包括:采用高纯半绝缘碳化硅晶片作为原料制备莫桑石,具体为:将高纯半绝缘碳化硅晶片放入坩埚,装炉并设置生长参数,通过加热所述坩埚,所述高纯半绝缘晶片升华而在坩埚顶部进行再结晶,冷却出炉得到无色莫桑石。

进一步,所述高纯半绝缘碳化硅晶片的晶型包括4H-SiC、6H-SiC。

进一步,所述晶片包括整片、小片、裂片、碎片。

进一步,所述晶片尺寸为1~12英寸。

进一步,所述坩埚材质包括石墨、碳化钽、镀碳化钽层的石墨。

进一步,所述生长参数为:温度在2000~2300℃,压力在1~700Torr。

进一步,所述坩埚顶部包括无籽晶坩埚盖,或有籽晶的坩埚盖。

进一步,所述籽晶为碳化硅晶片。

进一步,所述籽晶为碳化硅晶片晶型包括4H-SiC、6H-SiC。

进一步,所述籽晶为碳化硅晶片导电类型包括N型导电、高纯半绝缘。

本发明具有以下有益技术效果:

本发明采用高纯半绝缘碳化硅晶片作为原料制备莫桑石,(1)原料无纯度、掺杂问题;(2)工艺过程中,碳化硅晶片经过高洁清洗,整片作原材料时不存在抽气不完全的问题;碎片作原料时之间的间隙远小于颗粒状粉料,降低了氮掺杂。因此,该制备高质量无色莫桑石的方法,简单、便捷、良率高。

附图说明

图1是制备的高质量无色莫桑石;

图2是加工后的无色莫桑宝石。

具体实施方式

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