[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂

说明书

本文提供了用于从衬底除去光致抗蚀剂的改善的剥离剂溶液，其通常具有高于约95℃的闪点和高负载容量。所述剥离剂溶液包含二乙二醇丁醚，季铵氢氧化物，和具有至少两个碳原子、至少一个氨基取代基和至少一个羟基取代基的烷醇胺，所述氨基和羟基取代基与两个不同的碳原子连接。一些制剂可另外含有第二溶剂。所述制剂不含DMSO。另外提供了使用所述剥离剂溶液的方法。

相关申请的交叉引用

本申请根据35 U.S.C.§119(e)要求2018年3月7日提交的美国临时专利申请No.62/639,962的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明一般地涉及具有从衬底上有效除去光致抗蚀剂的能力的组合物，以及使用这样的组合物的方法。所公开的组合物是用于除去光致抗蚀剂的剥离剂溶液，其具有在低于正常室温的温度和在运输和仓储中经常遇到的温度下保持液态的能力，具有远高于正常加工温度的闪点，并且另外具有与聚合物介电材料的相容性。

发明内容

在本发明的一个方面，提供了用于从衬底有效除去或剥离正或负性光致抗蚀剂，蚀刻工艺后的光致抗蚀剂，或蚀刻残留物的光致抗蚀剂的剥离剂溶液(也称为组合物)。本发明的剥离剂溶液对于抗蚀剂材料具有特别高的负载能力，和在经历运输、仓储和一些生产设施的使用中经常遇到的低于正常室温的温度时保持液态的能力。组合物具有高于95℃的闪点。更优选的制剂具有大于或等于99℃的闪点。组合物具有充分低于0℃的凝固点，以最小化运输和仓储期间的固化。更优选的制剂具有低于约-10℃的凝固点。

根据本发明的组合物通常含有二乙二醇丁醚(DB)，季铵氢氧化物，和烷醇胺或第二溶剂或者两者。一个优选实施方式含有约30重量％至约97重量％的二乙二醇丁醚(DB)，约1重量％至约7重量％的季铵氢氧化物，和约1重量％至约75重量％的烷醇胺。优选的季基团是(C₁-C₈)烷基，苄基，芳烷基，(C₁-C₅)醇及其组合。特别优选的季铵氢氧化物包括四甲基氢氧化铵(TMAH)，四乙基氢氧化铵(TEAH)，乙基三甲基氢氧化铵(ETMAH)，氢氧化胆碱和二甲基二丙基氢氧化铵。优选的烷醇胺包括单乙醇胺(MEA)和(2-(2-氨基乙氧基)乙醇)(AEE)。组合物基本上不含DMSO。根据本发明的进一步的实施方式包含另外的溶剂或第二溶剂。优选的第二溶剂包括二醇，二醇醚，多羟基化合物等。

根据本发明的另一个实施方式包含DB，季铵氢氧化物，水和腐蚀抑制剂。该实施方式基本上不含烷醇胺，第二溶剂和DMSO。

本公开的第二方面提供了使用上述新型剥离剂溶液从衬底除去光致抗蚀剂和相关聚合物材料的方法。光致抗蚀剂可以通过使衬底与剥离剂溶液接触足以除去期望量的光致抗蚀剂的时间，通过从剥离剂溶液中移除衬底，用去离子水或溶剂从衬底冲洗剥离剂溶液，并且干燥衬底，而从其上具有光致抗蚀剂的所选衬底除去。

本公开的第三方面包括通过所公开的新颖方法制造的电子设备。

通过以下更详细的描述，结合通过示例的方式示出本发明的原理的附图，本发明的其他特征和优点将变得显而易见。

具体实施方式

出于促进理解要求保护的内容的目的，现将参考所说明的实施方式，并将使用特定语言描述所述实施方式。尽管如此，应理解，并不由此意图限制要求保护的内容的范围，如其中所说明的其原理的这样的改变和进一步的修改和这样的进一步的应用是被设想的，正如对于本公开涉及的领域中的技术人员所通常会发生的。