[发明专利]磁存储装置在审

专利信息
申请号: 201910176190.5 申请日: 2019-03-08
公开(公告)号: CN110880343A 公开(公告)日: 2020-03-13
发明(设计)人: 岩崎刚之;村山昭之;甲斐正;大坊忠臣;远藤将起;大岭俊平;五十岚太一;伊藤顺一 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: G11C11/15 分类号: G11C11/15;H01L21/00;H01L43/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种磁存储装置,具备磁阻效应元件,所述磁阻效应元件包含非磁性体、及所述非磁性体上的积层体,且

所述积层体包含:

第1铁磁体,设置在所述非磁性体上,根据所施加的电流保持不同的电阻;

反铁磁体,与所述第1铁磁体交换耦合;及

所述第1铁磁体与所述反铁磁体之间的第2铁磁体。

2.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体具有0.1纳米以上0.3纳米以下的膜厚。

3.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体具有非晶质结构。

4.根据权利要求3所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体具有软磁性。

5.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体具有与所述第1铁磁体相同的晶体结构。

6.根据权利要求5所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体具有硬磁性。

7.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体含有选自钴(Co)、铁(Fe)、镍(Ni)、及锰(Mn)中的至少一种元素。

8.根据权利要求7所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体还含有选自铌(Nb)、锆(Zr)、钽(Ta)、钛(Ti)、铪(Hf)、硅(Si)、及钆(Gd)中的至少一种元素。

9.根据权利要求8所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体含有选自钴钛(CoTi)、钴铪(CoHf)、钴锆(CoZr)、镍铌(NiNb)、镍锆(NiZr)、镍钽(NiTa)、镍钛(NiTi)、镍铪(NiHf)、锰硅(MnSi)、及锰钆(MnGd)中的至少一种合金。

10.根据权利要求7所述的磁存储装置,其中

所述第2铁磁体还含有硼(B)。

11.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述反铁磁体含有镍锰(NiMn)、或钯锰(PdMn)。

12.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述反铁磁体具有与所述第1铁磁体不同的晶体结构。

13.根据权利要求12所述的磁存储装置,其中

所述第1铁磁体具有与所述非磁性体相同的晶体结构。

14.根据权利要求1所述的磁存储装置,其中

所述磁阻效应元件还包含所述非磁性体上的所述第1铁磁体的相反侧的第3铁磁体,且

所述第1铁磁体、所述非磁性体、及所述第3铁磁体构成磁隧道结。

15.根据权利要求14所述的磁存储装置,其中

所述第3铁磁体的磁化大于所述积层体的磁化。

16.根据权利要求1所述的磁存储装置,其具备存储单元,所述存储单元包含所述磁阻效应元件、及连接于所述磁阻效应元件的选择器。

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