[发明专利]镀膜离子源的控制测试装置

说明书

本发明公开了一种镀膜离子源的控制测试装置，包含有设置在真空室内的石英锅，所述石英锅上连接有通过氩气的氩气管道，所述石英锅的下方还设有用于激发氩气的RF线圈，所述石英锅的上部设有栅网；通过采用抗干扰能力强的PLC控制器来处理数据的采集和控制外部硬件设备，提高了抗电磁干扰的能力，实现对镀膜离子源的工作范围的精确测量，以确保该镀膜离子源能够满足生产的需求，从而保证镀膜离子源的工作质量。

技术领域

本发明涉及离子源测试技术领域，具体涉及一种13.56MHz的镀膜离子源的控制测试装置。

背景技术

在现有技术中，光学镀膜在工业领域的应用越来越广，因其沉积速度快、离子能量高、靶材离化率大等优势而广泛应用于工业生产领域，涉及硬质刀具、灯具、家居装饰、模具、手机外壳不锈钢板材等工业生产制造业。而光学镀膜一般都采用电弧离子镀膜设备来进行生产，传统的电弧离子镀膜设备存在的一个主要问题：电弧源控制系统易受到周围的电磁干扰，稳定性不高，降低了镀膜质量。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本发明的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提出了镀膜离子源的控制测试装置，以达到对镀膜离子源工作范围进行有效测量和保证了镀膜离子源满足生产需求的目的。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一种镀膜离子源的控制测试装置，包含有设置在真空室内的石英锅，所述石英锅上连接有通过氩气的氩气管道，所述石英锅的下方还设有用于激发氩气的RF线圈，所述石英锅的上部设有栅网；

所述石英锅上还连接有正高压源、负高压源，所述正高压源和负高压源均由PLC控制器进行智能控制，所述栅网的最底层通过正高压源产生的正高压将等离子封入石英锅，所述栅网的中间层通过负高压源产生的负高压将正离子抽出并打在目标基板上；

所述PLC控制器通过RF信号源与所述RF线圈连接；

所述氩气管道上设有流量控制器，所述流量控制器与所述PLC控制器信号连接；

所述真空室还连接有真空泵，所述真空泵与所述PLC控制器信号连接。

本发明通过采用抗干扰能力强的PLC控制器来处理数据的采集和控制外部硬件设备，提高了抗电磁干扰的能力，实现对镀膜离子源的工作范围的精确测量，以确保该镀膜离子源能够满足生产的需求，从而保证镀膜离子源的工作质量。

作为优选的，所述PLC控制器还连接有电流计，所述电流计用于测试正离子轰击在基板上所产生的电流。

作为优选的，所述真空泵包含有相互串联的分子泵和机械泵，所述分子泵与所述真空室连通，所述分子泵通过电离规与所述PLC控制器信号连接，所述机械泵通过电阻规与所述PLC控制器信号连接。利用电离规、分子泵、电阻规和机械泵实现对真空室内的压力实现检测。

作为优选的，所述RF信号源通过阻抗匹配器与所述RF线圈连接，所述RF信号源、阻抗匹配器和离子源均由水循环冷却系统进行冷却。通过水循环冷却系统实现对RF信号源、阻抗匹配器和离子源的冷却，延长了设备的使用寿命。

作为优选的，所述PLC控制器还可连接有用于显示的显示机构，所述显示机构为上位机EPICS，且上位机EPICS可对所述PLC控制器输出控制信号。通过显示机构便于工作人员知晓各个检测数据，并根据该数据做出相应的指令。

本发明具有如下优点：

1.本发明通过采用抗干扰能力强的PLC控制器来处理数据的采集和控制外部硬件设备，提高了抗电磁干扰的能力，实现对镀膜离子源的工作范围的精确测量，以确保该镀膜离子源能够满足生产的需求，从而保证镀膜离子源的工作质量。