[发明专利]浆料回收系统及其清洁方法

权利要求书

1.一种浆料回收系统，用于半导体抛光工艺，其特征在于，包括：

主体管路，所述主体管路依次连接浆料回收箱、回收单元以及浆料配料单元；

第一支路，连接一液源与所述浆料回收箱，用于向所述浆料回收箱提供清洁液体；以及

第一出口端，设置于所述主体管路上，并位于所述浆料配料单元与所述回收单元之间。

2.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，所述第一支路上设置有第一支路阀，以打开或关闭所述第一支路，所述第一出口端设置有第一出口阀，以打开或关闭所述第一出口端。

3.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，还包括：

第二出口端，设置于所述浆料回收箱底部；所述第二出口端设置有第二出口阀，以打开或关闭所述第二出口端。

4.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，所述第一支路与所述浆料回收箱连接处设置有一喷嘴，以朝向所述浆料回收箱的内壁喷洒所述清洁液体。

5.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，还包括：

第二支路，连接一气源与所述主体管路，并位于所述浆料回收箱与所述回收单元之间，用于向所述主体管路提供清洁气体；所述第二支路上设置有第二支路阀，以打开或关闭所述第二支路。

6.如权利要求5所述的浆料回收系统，其特征在于，所述主体管路上设置有第一主体管路阀和第二主体管路阀，所述第一主体管路阀位于所述第一出口端与所述浆料配料单元之间，所述第二主体管路阀位于所述第二支路与所述浆料回收箱之间。

7.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，所述回收单元包括从远离所述浆料回收箱的方向依次设置的过滤组件和泵组件，所述泵组件的入口朝向所述浆料回收箱，出口朝向所述过滤组件。

8.如权利要求1所述的浆料回收系统，其特征在于，还包括：控制单元，具有PLC组件。

9.一种如权利要求1至8任一项所述的浆料回收系统的清洁方法，其特征在于，包括：第一步骤，关闭所述第一出口端与所述浆料配料单元之间的连接，通过所述第一支路向所述浆料回收箱提供清洁液体，并经过所述回收单元从所述第一出口端排出。

10.如权利要求9所述的浆料回收系统的清洁方法，其特征在于，还包括：第二步骤，关闭所述回收单元与所述浆料回收箱之间的连接，利用第二支路向所述主体管路提供清洁气体，并经过所述回收单元从所述第一出口端排出。

11.如权利要求10所述的浆料回收系统的清洁方法，其特征在于，在执行所述第一步骤3min～10min之后，执行所述第二步骤。

12.如权利要求10所述的浆料回收系统的清洁方法，其特征在于，在执行所述第二步骤之后，还包括：打开所述回收单元与所述浆料回收箱之间的连接，使所述清洁气体同时从所述第一出口端和第二出口端排出。