[发明专利]粘合片及其应用在审
申请号: | 201910183462.4 | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN110283546A | 公开(公告)日: | 2019-09-27 |
发明(设计)人: | 古田宪司;平尾昭;铃木立也;家田博基 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/25 | 分类号: | C09J7/25;C09J7/24;C09J7/40;C09J133/08;C09J123/22;C09J123/20 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合片 电子设备用 热收缩率 基材 加热 激光吸收率 气相色谱法 热收缩试验 电子设备 方向正交 高度集成 粘合剂层 产气量 质谱法 波长 流动 应用 | ||
1.一种粘合片,其为电子设备用粘合片,其中,
所述粘合片具有基材和设置在该基材的至少一个表面上的粘合剂层,
所述粘合片的波长1000nm~1100nm范围内的激光吸收率为20%以上,
在130℃下加热2分钟的热收缩试验中,所述粘合片的流动方向上的热收缩率SMD以及与该流动方向正交的方向上的热收缩率STD均为-2%以上且2%以下,并且
所述粘合片的使用气相色谱法/质谱法在80℃、3小时的条件下测定的加热产气量为1300ng/cm2以下。
2.如权利要求1所述的粘合片,其中,
在将30g载荷施加1小时的恒载荷剥离试验中,所述粘合片的剥离距离小于50mm。
3.如权利要求1或2所述的粘合片,其中,
所述基材的厚度为30μm以上。
4.如权利要求1~3中任一项所述的粘合片,其中,
所述基材包含配合了激光吸收剂的树脂膜。
5.如权利要求4所述的粘合片,其中,
所述激光吸收剂包含炭黑。
6.如权利要求1~5中任一项所述的粘合片,其中,
所述粘合剂层表面的、基于通过荧光X射线分析而得到的硅的X射线强度的聚二甲基硅氧烷换算的聚硅氧烷量为20ng/cm2以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的粘合片,其中,
所述粘合剂层为包含作为基础聚合物的丙烯酸类聚合物的丙烯酸类粘合剂层。
8.如权利要求1~6中任一项所述的粘合片,其中,
所述粘合剂层为包含作为基础聚合物的橡胶类聚合物的橡胶类粘合剂层。
9.如权利要求8所述的粘合片,其中,
所述橡胶类聚合物通过将选自由丁烯、异丁烯及异戊二烯构成的组中的至少一种单体聚合而得到。
10.如权利要求8或9所述的粘合片,其中,
所述橡胶类粘合剂层包含橡胶类聚合物A和橡胶类聚合物B,
所述橡胶类聚合物A通过将异丁烯以50重量%以上的比例聚合而得到,并且
所述橡胶类聚合物B通过将异丁烯和异戊二烯共聚而得到。
11.一种带剥离衬垫的粘合片,其中,所述带剥离衬垫的粘合片具有:
权利要求1~10中任一项所述的粘合片、和
以与所述粘合剂层接触的方式配置的剥离衬垫,并且
所述剥离衬垫的所述粘合剂层侧表面的、基于通过荧光X射线分析而得到的硅的X射线强度的聚二甲基硅氧烷换算的聚硅氧烷量为20ng/cm2以下。
12.一种磁盘装置,其中,所述磁盘装置具有权利要求1~10中任一项所述的粘合片。
13.如权利要求12所述的磁盘装置,其中,
所述粘合片具有通过激光加工而形成的通孔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910183462.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:自粘合性表面保护薄膜
- 下一篇:一种超厚超低粘保护膜制备工艺