[发明专利]光罩处理方法及微影装置

权利要求书

1.一种光罩处理方法，其特征在于，包含：

判断一颗粒是否在一光罩的一接触表面上；

若该颗粒在该接触表面，则清洁该光罩以由该光罩的该接触表面移除该颗粒；

在清洁该光罩之后将该光罩设置于一吸盘上，其中该光罩的该接触表面在该光罩设置于该吸盘上时接触该吸盘；以及

利用设置于该吸盘上的该光罩执行一微影制程。

2.根据权利要求1所述的光罩处理方法，其特征在于，其中该光罩具有一图案化区域和一非图案化区域，并且该光罩的该接触表面在该非图案化区域内。

3.根据权利要求1所述的光罩处理方法，其特征在于，其中该光罩具有多个非图案化区域和位于所述多个非图案化区域之间的一图案化区域，并且该光罩的该接触表面在所述多个非图案化区域内。

4.一种光罩处理方法，其特征在于，包含：

判断一颗粒是否在一光罩的一接触表面上；

若该颗粒在该接触表面上，则测定该颗粒的一高度；

判断该颗粒的该高度是否小于一预定高度；

若该颗粒的该高度小于该预定高度，则将该光罩设置于一吸盘上，其中该光罩的该接触表面在该光罩设置于该吸盘上时接触该吸盘；以及

利用设置于该吸盘上的该光罩执行一微影制程。

5.根据权利要求4所述的光罩处理方法，其特征在于，进一步包含：

若该颗粒的该高度大于该预定高度，则清洁该光罩。

6.根据权利要求4所述的光罩处理方法，其特征在于，其中测定该颗粒的该高度的步骤包含：

在不同高度撷取该颗粒的多个二维影像；以及

利用该颗粒的所述多个二维影像测定该颗粒的该高度。

7.根据权利要求4所述的光罩处理方法，其特征在于，进一步包含：

在判断该颗粒是否在该光罩的该接触表面上时，利用接触该光罩的相对侧壁的一夹持具持住该光罩。

8.根据权利要求4所述的光罩处理方法，其特征在于，进一步包含：

在测定该颗粒的该高度时，利用接触该光罩的相对侧壁的夹持具持住该光罩。

9.一种微影装置，其特征在于，包含：

一第一隔间；

一检测系统，在该第一隔间内，并配置以决定一颗粒是否在一光罩上；

一测量系统，在该第一隔间内，并配置以在该颗粒在该光罩上时测定该颗粒的一高度；

一第二隔间，其中该第一隔间和该第二隔间共享一侧壁，并且该侧壁具有连通该第一隔间和该第二隔间的一通道；

一吸盘，在该第二隔间内；以及

一转移机构，配置以在该吸盘、该检测系统和该测量系统之间转移该光罩。

10.根据权利要求9所述的微影装置，其特征在于，其中该检测系统配置以检测该光罩的一非图案化区域。