[发明专利]NOx

权利要求书

1.一种NO_x吸附剂，其特征在于，包括：负载有贵金属的分子筛，所述分子筛具有四面体结构；其中，

所述分子筛的表面为经改性剂改性处理得到的含Si-O-Si键的改性表面；或者，利用改性剂使所述分子筛的表面包覆有含Si的壳层结构；

所述改性剂包括含硅化合物；

所述含硅化合物包括硅烷偶联剂、正硅酸四乙酯、气相SiO₂和硅溶胶中的一种或两种以上的组合。

2.根据权利要求1所述的NO_x吸附剂，其特征在于，基于所述贵金属的总质量，至少1％的所述贵金属存在于所述分子筛的孔隙内。

3.根据权利要求2所述的NO_x吸附剂，其特征在于，所述贵金属包括铂、钯、铑、金、银、铱、钌和锇中的一种或两种以上的组合。

4.根据权利要求1-3任一项所述的NO_x吸附剂，其特征在于，以所述NO_x吸附剂的总质量计，所述贵金属的加入量为0.5-10wt.％。

5.根据所在权利要求4所述的NO_x吸附剂，其特征在于，以所述NO_x吸附剂的总质量计，所述贵金属的加入量为1-5wt.％。

6.根据权利要求1-3任一项所述的NOx吸附剂，其特征在于，所述分子筛包括铝硅酸盐分子筛、改性的铝硅酸盐分子筛、铝磷酸盐分子筛和改性的铝磷酸盐分子筛中的一种或两种以上的组合。

7.根据权利要求6所述的NOx吸附剂，其特征在于，所述分子筛中，硅铝比为12以下。

8.根据权利要求1-3任一项所述的NO_x吸附剂，其特征在于，所述分子筛的骨架结构选自ACO、AEI、AEN、AFN、AFT、AFX、ANA、APC、APD、ATT、CDO、CHA、DDR、DFT、EAB、EDI、EPI、ERI、GIS、GOO、IHW、ITE、ITW、LEV、KFI、MER、MON、NSI、OWE、PAU、PHI、RHO、RTH、SAT、SAV、SIV、THO、TSC、UEI、UFI、VNI、YUG和ZON中的一种或两种以上的组合所组成的组。

9.根据权利要求1-3任一项所述的NO_x吸附剂，其特征在于，所述硅烷偶联剂包括六甲基硅氮烷、三甲基氯硅烷和正辛基三乙基硅烷中的一种或两种以上的组合。

10.一种NO_x吸附剂的制备方法，包括以下步骤：

负载步骤：将贵金属负载在分子筛上，所述分子筛具有四面体结构；

改性步骤：利用改性剂对所述分子筛进行改性处理，得到的含Si-O-Si键的改性表面；或者使所述分子筛的表面包覆有含Si的壳层结构；

所述改性剂包括含硅化合物；

所述含硅化合物包括硅烷偶联剂、正硅酸四乙酯、气相SiO₂和硅溶胶中的一种或两种以上的组合。

11.根据权利要求10所述的NO_x吸附剂的制备方法，其特征在于，所述负载步骤中，所述负载的方法包括浸渍法、离子交换法和吸附法中的一种或两种以上的组合；和/或

所述改性步骤包括利用羟基缩合法、基团桥接法和外延生长法中的一种或两种以上的组合对所述分子筛进行处理。

12.一种NO_x吸收装置，其特征在于，包括根据权利要求1-9任一项所述的NO_x吸附剂，或者根据权利要求10或11所述的方法制备得到的NO_x吸附剂。