[发明专利]一种湿法刻蚀设备及光刻胶清洗显影装置

权利要求书

1.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体的外壁上设有控制面板；

载液盆，设于所述壳体内，用于盛放溶液；所述载液盆的盆沿与所述壳体的内壁固连；

超声波雾化器，固设于所述载液盆的底部，用于将所述载液盆中的溶液雾化成液滴；

刻蚀花篮，设于所述载液盆的盆沿上，用于盛放被刻蚀器件；所述被刻蚀器件与所述溶液分离；

供电模块，设于所述壳体的底部；

其中，所述超声波雾化器与所述控制面板电连接；所述超声波雾化器、所述控制面板均与所述供电模块电连接；还包括固设于所述载液盆外壁上的加热件，所述加热件与所述控制面板电连接，所述加热件与所述供电模块电连接；

还包括磁力搅拌器，所述磁力搅拌器的驱动部固设于所述壳体内底部，并与所述载液盆的底部对齐；所述磁力搅拌器的磁力搅拌子置于所述载液盆内；

所述驱动部与所述供电模块电连接，所述驱动部还与所述控制面板电连接；

还包括顶盖，所述顶盖与所述壳体的上端面螺纹连接；

所述顶盖的下表面设有温度传感器，所述顶盖的上表面设有温度显示器，所述温度传感器与所述温度显示器相连；

还包括用于密封所述壳体的密封圈，所述密封圈套设于所述顶盖的螺纹上；

所述载液盆呈锥形。

2.如权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述控制面板中的控制单元为单片机。

3.如权利要求1或2中所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述载液盆、所述壳体均由特氟龙材料制成。

4.如权利要求3所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述溶液为刻蚀液。

5.一种光刻胶清洗显影装置，其特征在于，包括如权利要求1至4中任意一项所述的湿法刻蚀设备。