[发明专利]考虑距离的薄膜封装的MEMS器件组件及电子设备在审
申请号: | 201910186409.X | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN111010110A | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 张孟伦;庞慰;杨清瑞 | 申请(专利权)人: | 天津大学;诺思(天津)微系统有限责任公司 |
主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H9/05;H03H9/10;H03H9/24;H03H9/46 |
代理公司: | 北京金诚同达律师事务所 11651 | 代理人: | 汤雄军 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 考虑 距离 薄膜 封装 mems 器件 组件 电子设备 | ||
本发明涉及一种MEMS器件组件,包括:MEMS器件,具有功能部件、声学镜和封装表面,所述声学镜具有边界,所述功能部件与所述声学镜在器件的厚度方向上至少部分重叠;封装薄膜,设置于所述封装表面,用于形成封装所述MEMS器件的功能部件的封装空间,所述封装空间具有封装边缘,其中:所述封装边缘与所述边界之间的横向距离在0.5微米‑20微米的范围内。该MEMS器件可以为薄膜体声波谐振器。本发明还涉及一种具有上述MEMS器件组件的电子设备。
技术领域
本发明的实施例涉及半导体领域,尤其涉及一种MEMS器件组件,以及一种具有该组件的电子设备。
背景技术
基于半导体微加工的MEMS器件具有体积小、功耗低、集成性强、耐用性好、价格低廉、性能稳定等优点。作为体声波(BAW)谐振器的一种,薄膜体声波谐振器(Film BulkAcoustic Resonator,简称FBAR)作为MEMS器件的重要成员正在通信领域发挥着重要作用,特别是FBAR滤波器在射频滤波器领域市场占有份额越来越大,FBAR滤波器由于具有尺寸小(um级)、谐振频率高(GHz)、品质因数高(1000)、功率容量大、滚降效应好等优良特性,在2-10GHz频段已逐步取代传统的声表面波(SAW)滤波器。
对于BAW谐振器,目前商业化的主要有两种结构:空腔型结构(Film BulkAcoustic Wave,FBAR)和固体装配型结构(Solidly Mounted Resonator,SMR)。这两种体声波谐振器的原理相同,主要区别就是谐振能量的限制方式。FBAR谐振器通过下部空腔将压电薄膜的主体部分悬于硅基底上,谐振时能量就被限制在这部分中。SMR谐振器是在电极下面形成对声波起反射作用的“镜面”,这些“镜面”被称为布拉格反射层,由一些声阻抗相差很大的膜层交替构成,如W和SiO2(约4:1的阻抗比),AlN和SiO2(约3:1的阻抗比),可以将声波反射回核心的谐振部分,起到了限制能量耗散的作用。
通常,BAW谐振器要求特定的应用环境,例如,特定范围的湿度或压力或在惰性气体中。此外,有的体声波谐振器对特定污染源敏感。因此,需要对BAW谐振器封装。
薄膜封装是对MEMS器件进行封装的一种方式,其有助于获得缩小封装尺寸、简化封装工艺步骤、节省封装成本、提高密封强度等中的至少一个方面的优点。
薄膜封装也可以用于体声波谐振器,下面以薄膜体声波谐振器的封装进行简单说明。
图1示出了现有技术中薄膜体声波谐振器的薄膜封装。在图1中,10为谐振器的底部空腔,11为谐振器的底电极,12为谐振器的压电层,13为谐振器的顶电极;14为薄膜封装层,15为薄膜封装层14上的释放孔,16为薄膜封装层14的密封层;17为薄膜封装层形成的位于谐振器顶部的封装空间。
从图1中可以看出,一般的薄膜封装方式会存在一直角结构18,而在直角结构处,应力会发生聚集,如果应力过大,很容易造成边界处应力集中的地方即直角结构18开裂,导致器件密封失效。另外,应力太大会造成多层膜的粘附性变差,机械性能降低。此外,应力过大会造成晶格不匹配,导致成膜质量变差。
此外,从图1中也可以看出,封装结构的尺寸较大,不利于器件的小型化。
发明内容
为缓解或解决现有技术中的上述问题中的至少一个方面,提出本发明。
根据本发明的实施例的一个方面,提出了一种MEMS器件组件,包括:
MEMS器件,具有功能部件、声学镜和封装表面,所述声学镜具有边界,所述功能部件与所述声学镜在器件的厚度方向上至少部分重叠;
封装薄膜,设置于所述封装表面,用于形成封装所述MEMS器件的功能部件的封装空间,所述封装空间具有封装边缘,
其中:
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