[发明专利]靶材结构

说明书

本发明公开一种靶材结构，包括载板、磁性元件及靶材。载板具有承载面。磁性元件配置在承载面。靶材配置在磁性元件且覆盖整个磁性元件。磁性元件的位置对应一强蚀位置。本发明的磁性元件能减弱磁场强度，因此能有效减少靶材在强蚀位置位置的消耗率(减少侵蚀深度)，进而让靶材在各位置的消耗率更为平均，以提升靶材的使用寿命。

技术领域

本发明是有关于一种靶材结构，且特别是有关于一种具有磁性元件的靶材结构。

背景技术

在离子溅镀工艺中，靶材会逐渐消耗。由于溅镀机台产生的磁场在靶材不同位置的强度不同，因此造成靶材在不同位置的侵蚀量不一，进而造成靶材在不同位置的侵蚀深度，即某些位置的消耗深度特别深。通常情况是，当靶材的一位置过薄，即便其它大部分位置仍具有足够厚度，就必须更换新的靶材，而造成靶材的浪费(因为其它大部分位置仍具有足够厚度)。

因此，如何提出一种新的靶材结构以改善前述问题是本技术领域业者努力的方向之一。

发明内容

本发明有关于一种靶材结构，可改善现有技术中更换频繁造成的靶材浪费问题。

本发明一实施例提出一种靶材结构。靶材结构包括一载板、一第一磁性元件及一靶材。载板具有一承载面。第一磁性元件配置在承载面。靶材配置在第一磁性元件且覆盖整个第一磁性元件。其中，第一磁性元件的位置对应一第一强蚀位置。

于一实施例中，该靶材结构更包括：

一第一黏胶，形成于该承载面；

其中，该第一磁性元件通过该第一黏胶配置在该承载面。

于一实施例中，该靶材结构更包括：

一第二黏胶；以及

一第三黏胶；

其中，该第二黏胶及该第三黏胶分别形成于该第一磁性元件的相对二面。

于一实施例中，该靶材结构更包括：

一第四黏胶，覆盖该第一磁性元件及该第一黏胶；

其中，该靶材通过该第四黏胶配置在该第一磁性元件。

于一实施例中，该靶材结构更包括：

一第二磁性元件，配置在该承载面；

其中，该靶材配置在该第一磁性元件且覆盖整个该第一磁性元件，而该第二磁性元件的位置对应一第二强蚀位置。

于一实施例中，该第一强蚀位置与该第二强蚀位置相对该载板的中心呈对称。

于一实施例中，该靶材结构更包括：

一第二磁性元件；

一第五黏胶；以及

一第六黏胶；

其中，该第五黏胶及该第六黏胶分别形成于该第二磁性元件的相对二面。

于一实施例中，该第一磁性元件具有一裁断侧面，该裁断侧面与该靶材的一侧面实质上对齐。

于一实施例中，该第一磁性元件包括一调整部及一磁性部，该调整部连接于该磁性部；该磁性部的位置对应该第一强蚀位置，该调整部具有一裁断侧面，该裁断侧面与该靶材的一侧面实质上对齐。

于一实施例中，该第一磁性元件的厚度介于0.1毫米～0.5毫米之间，及/或该第一磁性元件的材料选自铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、不锈钢、坡莫合金(permalloy)及其任意组合，及/或该第一磁性元件宽度介于该靶材宽度的20％～100％。