[发明专利]不包含氟的蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含：

过氧化氢，5重量百分比至20重量百分比；

四氮环状化合物，所述四氮环状化合物为选自由四唑、5-甲基四唑、5-巯基-甲基四唑以及它们的混合物组成的组中的一种以上，0.01重量百分比至1.5重量百分比；

三氮环状化合物，所述三氮环状化合物为选自由1，2，4-三唑、3-氨基-1，2，4-三唑-5-硫醇、苯并三唑、1，2，4-三唑-3-硫醇、3-巯基-4-甲基-1，2，4-三唑以及它们的混合物组成的组中的一种以上，0.01重量百分比至1.5重量百分比；

芳香族化合物，所述芳香族化合物为选自由组氨酸、苯丙氨酸、香草酸、扁桃酸、吡唑酸以及它们的混合物组成的组中的一种以上，0.01重量百分比至1重量百分比；

胺类化合物，所述胺类化合物为选自二乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-氨基乙基乙醇胺、N-丙基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、三乙醇胺、1-氨基-2-丙醇、N-甲基异丙醇胺以及它们的混合物中的一种以上，3重量百分比至10重量百分比；以及

水。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含过氧化氢稳定剂1重量百分比至5重量百分比。

3.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，过氧化氢稳定剂为选自由磷酸盐、苯基脲、二甲脲、二元醇类化合物以及它们的混合物组成的组中的一种以上。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含有机酸1重量百分比至5重量百分比。

5.根据权利要求4所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述有机酸为选自由丁二酸、丙二酸、苹果酸、蚁酸、马来酸、乙酸、柠檬酸、酒石酸以及它们的混合物组成的组中的一种以上。

6.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含无机酸0.1重量百分比至5重量百分比。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含磺酸类化合物1重量百分比至5重量百分比。

8.根据权利要求7所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述磺酸类化合物为选自由甲磺酸、氨基磺酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、氨磺酸、胺基磺酸、环状磺酸化合物、烃类磺酸以及它们的混合物组成的组中的一种以上。

9.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含：

有机酸1重量百分比至5重量百分比；

无机酸0.1重量百分比至5重量百分比；以及

磺酸类化合物1重量百分比至5重量百分比。

10.根据权利要求1至9中的一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，蚀刻液组合物对选自铜、钛、钼、铜合金、钛合金以及钼合金中的一种以上进行蚀刻。

11.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻液组合物不包含氟。