[发明专利]测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序有效
申请号: | 201910193622.3 | 申请日: | 2019-03-14 |
公开(公告)号: | CN110857913B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 村上友佳子;植松育生;平川雅章 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G01N21/3577 | 分类号: | G01N21/3577 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测定 蚀刻 系统 浓度 方法 程序 | ||
本发明提供能够测定溶液中的微量硅浓度的测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。根据实施方式,提供一种测定器,其包含输入输出部、存储器和处理器。输入输出部被输入测定值信息,所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度,所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水。存储器保持变动值信息,所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系,所述基准液含有磷酸、第2酸和水。处理器基于输入至输入输出部的测定值信息和从存储器读出的变动值信息,得到相当于测定值信息的测定对象液的硅浓度。
技术领域
本发明的实施方式涉及测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。
背景技术
为了把握溶液中(特别是磷酸液中)所包含的硅浓度,有(1)离线的分析(ICP发光分光分析)、(2)由溶解的硅化合物量和溶液重量进行计算的方法等。
(1)的方法中分析要花费时间,无法把握实时变动的硅浓度。另外,通过(2)的方法求出的值为计算值,不是实测的。
发明内容
本发明所要解决的课题是提供能够测定溶液中的微量硅浓度的测定器、蚀刻系统、硅浓度测定方法及硅浓度测定程序。
根据实施方式,提供一种测定器,其包含输入输出部、存储器和处理器。输入输出部被输入测定值信息,所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度,所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水。存储器保持变动值信息,所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系,所述基准液含有磷酸、第2酸和水。处理器基于输入至输入输出部中的测定值信息和从存储器读出的变动值信息而得到相当于测定值信息的测定对象液的硅浓度。
根据另一实施方式,提供一种蚀刻系统,其包含第1容器、第2容器、第3容器、第4容器、测定部和控制部。第1容器是用于利用包含磷酸及水的蚀刻液对硅化合物进行蚀刻的容器。第2容器是用于向第1容器中导入磷酸的容器。第3容器是用于向第1容器中导入水的容器。第4容器是用于从第1容器取得蚀刻液、同时容纳在蚀刻液中添加硫酸而得到的测定对象液的容器。测定部具备实施方式的测定器,利用测定器测定第4容器内的测定对象溶液中所包含的硅浓度。控制部根据测定部中的测定结果,从第2容器向第1容器中导入磷酸和/或从第3容器向第1容器中导入水。
根据又一实施方式,提供一种硅浓度测定方法,其包括:
从近红外光分光器接受测定值信息,所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度,所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水;
从存储器读出变动值信息,所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系,所述基准液含有磷酸、第2酸和水;和
基于所读出的变动值信息,得到相当于所接受的测定值信息的测定对象溶液中所包含的硅的浓度。
根据再一实施方式,提供一种硅浓度测定程序,其用于测定包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水的测定对象液的硅浓度。硅浓度测定程序通过利用处理器来执行,从而对于处理器,
接收测定值信息,所述测定值信息表示测定对象液的磷酸、第2酸和水的浓度,所述测定对象液包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数pK的第2酸和水,
从存储器读出变动值信息,所述变动值信息包含在基准液中按照成为基准硅浓度的方式添加硅时的磷酸、第2酸和水的浓度变化与基准硅浓度的关系,所述基准液含有磷酸、第2酸和水,
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