[发明专利]一种均匀分散物料的反应釜

权利要求书

1.一种均匀分散物料的反应釜，包括反应釜本体（1），所述本体（1）内设置有反应腔（2），所述本体（1）上设置有出料通道（3）和若干进料通道（4），其特征在于：所述反应腔（2）内设置有双层导流结构（5），所述双层导流结构（5）包括内筒（51）和外筒（52），所述内筒（51）和所述外筒（52）通过定位板固定连接并形成导流通道（53），所述导流通道（53）顶部弯曲朝向所述本体（1）的内侧壁，所述外筒（52）底部低于所述内筒（51），所述内筒（51）内滑动设置有活塞（6），所述内筒（51）上设置有限位环（54），所述本体（1）顶部设置有卷线机（7），所述卷线机（7）通过卷绕绳（71）连接所述活塞（6），所述进料通道（4）的入料口位于所述本体（1）内壁上，所述本体（1）底部设置有所述出料通道（3），所述反应腔（2）底部设置有导向筒（8），所述外筒（52）在所述导向筒（8）内滑动，所述导向筒（8）侧壁设置有若干通孔（81），所述本体（1）内壁上设置有均匀分布的弧形凸起（9），所述活塞上升时，所述活塞与所述限位环接触之后带动所述双层导流结构提升以使物料从所述双层导流结构的外侧进入到所述双层导流结构下方，所述活塞下降时，所述双层导流结构的外筒触碰到反应腔的底部，所述活塞继续下降，将所述活塞下方的物料从所述导流通道的顶部喷挤出，物料从所述导流通道顶部喷出后沿着所述本体的内侧壁流下。

2.如权利要求1所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：若干所述进料通道（4）呈环形设置于所述本体（1）的侧壁内，每个所述进料通道（4）上设置有若干伸入所述本体（1）内侧壁的进料口（41）。

3.如权利要求2所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：所述进料通道（4）自上而下均匀设置在所述本体（1）的侧壁内。

4.如权利要求1所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：所述出料通道（3）位于所述导向筒（8）内的所述本体（1）底部。

5.如权利要求1-4任意一条所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：所述本体（1）侧壁上设置有蒸汽加热通道（10）。

6.如权利要求5所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：所述本体（1）侧壁上设置有隔热层（11），所述隔热层（11）位于所述蒸汽加热通道（10）外侧。

7.如权利要求2或3所述的一种均匀分散物料的反应釜，其特征在于：所述本体（1）侧壁上设置有蒸汽加热通道（10），所述进料通道（4）的环形部分位于所述蒸汽加热通道（10）内。