[发明专利]一种光纤几何参数测试装置

说明书

本发明实施例提供的一种光纤几何参数测试装置，包括：单波长光源；照明系统；第一三维精密位移台，所述第一三维精密位移台位于所述照明系统之后；第二三维精密位移台，所述第二三维精密位移台与所述第一三维精密位移台为间隔预设距离排布，固定所述待测光纤的第二端；物镜，所述物镜接收从所述待测光纤中射出的单波长光斑并对其进行放大；光电成像系统，所述光电成像系统对所述单波长光斑进行成像。解决了现有技术中光纤几何尺寸测量只能检测常规包层通信用光纤，在特种光纤领域几何参数测量中不能满足光路结构要求的技术问题。达到了给各种不同尺寸结构的特种光纤成像，满足大芯径光纤几何参数测量所需技术条件的技术效果。

技术领域

本发明涉及光纤测量技术领域，尤其涉及一种光纤几何参数测试装置。

背景技术

近十年来国内外对于特种光纤的需求与日俱增，特别是随着大芯径光纤在高功率光纤激光器中的大量使用，但大芯径光纤的几何尺寸参数测量一直没有得到很好的解决，各种不同结构的大芯径光纤的几何测量成为难题。目前市场化的测试设备有且仅有美国PHOTON KINETICS生产制造，此生产商设备的几何参数测试光路严格保密，且仅能测量圆形包层直径为130um以下的光纤。

申请发明人在实现本申请实施例中技术方案的过程中，发现上述现有技术至少存在如下技术问题：

现有技术中的光纤几何尺寸测量只能检测常规包层通信用光纤，在特种光纤领域尤其是大芯径光纤几何参数测量中不能满足光路结构要求。

发明内容

本发明实施例提供了一种光纤几何参数测试装置，解决了现有技术中光纤几何尺寸测量只能检测常规包层通信用光纤，在特种光纤领域尤其是大芯径光纤几何参数测量中不能满足光路结构要求的技术问题。

鉴于上述问题，本发明实施例提供了一种光纤几何参数测试装置，所述装置包括：单波长光源，所述单波长光源发射出平行单波长光束；照明系统，所述照明系统设置在所述单波长光源发射光束方向位置；第一三维精密位移台，所述第一三维精密位移台位于所述照明系统之后，固定待测光纤的第一端，所述平行单波长光束入射至所述待测光纤的第一端；第二三维精密位移台，所述第二三维精密位移台与所述第一三维精密位移台的位于同一平面上，且与所述第一三维精密位移台为间隔预设距离排布，固定所述待测光纤的第二端，令所述待测光纤处于弯曲状态；物镜，所述物镜接收从所述待测光纤中射出的单波长光斑并对所述单波长光斑进行放大；光电成像系统，所述光电成像系统位于所述物镜之后，接收所述放大后的单波长光斑，对所述单波长光斑进行成像之后，对所述图像信息进行几何参数测试。

进一步的，所述照明系统包括：环状照明光源，所述环状照明光源设置在所述单波长光源发射光斑方向位置，且所述环状照明光源的几何中心与所述待测光纤的端面中心相重合；照明控制电路，所述照明控制电路与所述环状照明光源电连接，根据所述待测光纤芯层与包层的对比度，进行明暗场切换。

进一步的，所述装置还包括：光学隔振平板，所述光学隔振平板分别位于所述第一三维精密位移台和所述第二三维精密位移台下方。

进一步的，所述第一距离不小于所述待测光纤的最小弯曲半径的两倍。

进一步的，所述单波长光斑在入射至所述待测光纤的首端时，所述单波长光斑面积大于所述待测光纤的端面面积。

进一步的，所述物镜与所述待测光纤末端的距离小于等于所述第二三维精密位移台的调节行程。

进一步的，所述光电成像系统包括：光电成像装置，所述光电成像装置位于所述物镜之后，接收所述放大后的单波长光斑，对所述单波长光斑进行成像；成像控制电路，所述成像控制电路与所述光电成像装置电连接，控制所述光电成像装置的工作状态；成像控制器，所述成像控制器与所述光电成像装置通讯连接，接收所述单波长光斑的图像信息，并对所述图像信息进行几何参数测试。

进一步的，所述光电成像装置为大于300万像素且具有黑白成像功能的电荷耦合器。