[发明专利]一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件在审
| 申请号： | 201910198789.9 | 申请日： | 2019-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN109869409A | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 郑锦;逯文冬;耿晨宇;黄省三 | 申请（专利权）人： | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 主分类号： | F16C11/06 | 分类号： | F16C11/06;F16C11/12;F16F7/104;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李静 |
| 地址： | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提升机构 原子层沉积设备 原子层沉积 定位销轴 伺服电缸 连接件 限位块 弹簧 下端 半导体设备 刚性连接件 准确度 金属颗粒 柔性连接 硬性摩擦 轴连接 上套 位块 | ||
1.一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，包括伺服电缸（1），伺服电缸（1）下端设置有限位块（3），其特征在于，所述限位块（3）下端安装有定位销轴（6），限位块（3）和定位销轴（6）通过自调轴（5）连接，自调轴（5）上套设有弹簧（4）。
2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述定位销轴（6）上端固定在固定板上，固定板和限位块（3）上均开设有通孔，自调轴（5）通过通孔贯穿固定在固定板和限位块（3）上，弹簧（4）设置在固定板和限位块（3）之间。
3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述固定板上端中心位置处设有球面凸体（7）。
4.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述定位销轴（6）设置在固定板的中心位置处。
5.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述固定板和限位块（3）呈平行分布。
6.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述自调轴（5）在限位块（3）上设置有三个，且呈环形阵列分布，自调轴（5）下端固定有限位帽。
7.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，其特征在于，所述限位块（3）上端设有定位螺母（2）。
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