[发明专利]一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件

说明书

本发明涉及原子层沉积领域，具体是一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，包括伺服电缸，伺服电缸下端设置有限位块，所述限位块下端安装有定位销轴，限位块和定位销轴通过自调轴连接，自调轴上套设有弹簧。本发明中自调轴和弹簧增加了柔性连接自调的效果，进而避免硬性摩擦产生的机械颗粒，在每次开关时可提升定位的准确度，从而达到了每次工艺的稳定性和重复性。解决了目前在原子层沉积半导体设备上的提升机构上大多数是刚性连接件，进而易产生机械金属颗粒问题。

技术领域

本发明涉及原子层沉积领域，具体是一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件。

背景技术

原子层沉积，是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

目前在原子层沉积半导体设备上的提升机构上大多数是刚性连接件，这在启动和停止时会由于惯性产生较大的阻尼和碰撞，引起驱动机构过载或过热，也会在这两个过程中产生碰撞和摩擦，从而产生机械金属颗粒；同时对于座上有空及安装在盖板上的固定销的定位无法起到柔性自调节的作用。

特提出一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件，包括伺服电缸，伺服电缸下端设置有限位块，所述限位块下端安装有定位销轴，限位块和定位销轴通过自调轴连接，自调轴上套设有弹簧。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述定位销轴上端固定在固定板上，固定板和限位块上均开设有通孔，自调轴通过通孔贯穿固定在固定板和限位块上，弹簧设置在固定板和限位块之间。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述固定板上端中心位置处设有球面凸体。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述定位销轴设置在固定板的中心位置处。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述固定板和限位块呈平行分布。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述自调轴在限位块上设置有三个，且呈环形阵列分布，自调轴下端固定有限位帽。

为了进一步提高一种原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的使用效果，所述限位块上端设有定位螺母。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明中自调轴和弹簧增加了柔性连接自调的效果，进而避免硬性摩擦产生的机械颗粒，在每次开关时可提升定位的准确度，从而达到了每次工艺的稳定性和重复性，突现该工艺设备的优越性。

附图说明

图1为本发明原子层沉积设备用的提升机构的自调节连接件的结构示意图。

图中：1-伺服电缸；2-定位螺母；3-限位块；4-弹簧；5-自调轴；6-定位销轴；7-球面凸体。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明的技术方案作进一步详细地说明。

实施例1