[发明专利]一种铝锅抛光剂及其抛光工艺在审
申请号: | 201910210159.9 | 申请日: | 2019-03-19 |
公开(公告)号: | CN109881201A | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 戴志林;黄刚 | 申请(专利权)人: | 福建鼎厨王厨具有限公司 |
主分类号: | C23F3/03 | 分类号: | C23F3/03;B24B29/02 |
代理公司: | 广州京诺知识产权代理有限公司 44407 | 代理人: | 刘菊欣 |
地址: | 363000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 重量份 铝锅 研磨颗粒 抛光剂 氧化剂 三氧化二铝 草酸 胶质二氧化硅 柠檬酸 表面光洁度 胶质 二氧化硅 高温成型 环保健康 抛光工艺 抛光过程 去离子水 重量配比 结晶相 酒石酸 苹果酸 山梨酸 水杨酸 碳化硅 甘油 粒径 配制 钻石 无毒 安全 | ||
1.一种铝锅抛光剂,其特征在于:
由以下组分按照以下重量配比配制而成:
所述研磨颗粒的粒径为20-500nm,
所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合;
所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。
2.一种铝锅抛光工艺,其特征在于:包括以下步骤:
步骤一:将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中;打开搅拌机,转速控制在200-250转/min,加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂;加入碱性pH值调整剂,调整pH值为8.5-13.5,得到成品抛光液;
步骤二:将铝锅装载至操作转台,将研磨辊下压铝锅外壁,转台转速:75-90rpm;研磨辊下压压力:0.4-0.6kgf/cm2;抛光液流速:12-15L/min;抛光时间:6-8min;
步骤三:将抛光后的铝锅用清水清洗,将表面残留的抛光液完全洗掉后,再用去离子水冲洗;然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时;
步骤四:再将铝锅装载至操作转台,将研磨布下压铝锅外壁,转台转速:75-90rpm;研磨辊下压压力:0.4-0.6kgf/cm2;上光,上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成:
煤油65-75重量份
植物油8-10重量份
猪油20-22重量份。
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