[发明专利]一种铝锅抛光剂及其抛光工艺在审

专利信息
申请号: 201910210159.9 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN109881201A 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 戴志林;黄刚 申请(专利权)人: 福建鼎厨王厨具有限公司
主分类号: C23F3/03 分类号: C23F3/03;B24B29/02
代理公司: 广州京诺知识产权代理有限公司 44407 代理人: 刘菊欣
地址: 363000 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 重量份 铝锅 研磨颗粒 抛光剂 氧化剂 三氧化二铝 草酸 胶质二氧化硅 柠檬酸 表面光洁度 胶质 二氧化硅 高温成型 环保健康 抛光工艺 抛光过程 去离子水 重量配比 结晶相 酒石酸 苹果酸 山梨酸 水杨酸 碳化硅 甘油 粒径 配制 钻石 无毒 安全
【权利要求书】:

1.一种铝锅抛光剂,其特征在于:

由以下组分按照以下重量配比配制而成:

所述研磨颗粒的粒径为20-500nm,

所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合;

所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。

2.一种铝锅抛光工艺,其特征在于:包括以下步骤:

步骤一:将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中;打开搅拌机,转速控制在200-250转/min,加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂;加入碱性pH值调整剂,调整pH值为8.5-13.5,得到成品抛光液;

步骤二:将铝锅装载至操作转台,将研磨辊下压铝锅外壁,转台转速:75-90rpm;研磨辊下压压力:0.4-0.6kgf/cm2;抛光液流速:12-15L/min;抛光时间:6-8min;

步骤三:将抛光后的铝锅用清水清洗,将表面残留的抛光液完全洗掉后,再用去离子水冲洗;然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时;

步骤四:再将铝锅装载至操作转台,将研磨布下压铝锅外壁,转台转速:75-90rpm;研磨辊下压压力:0.4-0.6kgf/cm2;上光,上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成:

煤油65-75重量份

植物油8-10重量份

猪油20-22重量份。

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