[发明专利]一种铝锅抛光剂及其抛光工艺

说明书

本发明涉及一种铝锅抛光剂，由以下组分按照以下重量配比配制而成：研磨颗粒8‑60重量份，甘油0.1‑1.5重量份，氧化剂0.1‑1.5重量份，去离子水150‑180重量份；所述研磨颗粒的粒径为20‑500nm，所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合；所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。该铝锅抛光剂不仅能达到良好的表面光洁度，而且抛光过程中安全无毒，环保健康。

技术领域

本发明属于厨具加工技术领域，具体涉及一种铝锅抛光剂及其抛光工艺。

背景技术

由于铝材硬度低、质地软，机械强度差，因此，在进行加工成型的过程中容易受到机械损伤，从而造成表面磨损、划痕等各种缺陷。这些缺陷的存在不仅会影响表面的平整性和光亮度，还会影响其化学稳定性，尤其在表面缺陷处很容易发生腐蚀。为了提高铝或铝制品表面平滑度和光洁度，往往需要对其表面进行抛光处理，消除加工过程中的表面缺陷，从而获得良好的表面光洁度，提高铝制品的装饰效果。

其中，机械抛光劳动强度比较大，大面积抛光表面不均匀；而化学抛光过程中会产生有毒气体，严重危害健康，还造成大气污染；电解抛光成本高、设备复杂。

而铝锅作为厨具，不但要求良好的表面光洁度，更重要的是抛光过程中必须安全无毒，环保健康。

发明内容

为了解决以上技术问题，本发明提供一种铝锅抛光剂及其抛光工艺，不仅能达到良好的表面光洁度，而且抛光过程中安全无毒，环保健康。

本发明技术方案是：

方案一：

一种铝锅抛光剂，由以下组分按照以下重量配比配制而成：

由以下组分按照以下重量配比配制而成：

所述研磨颗粒的粒径为20-500nm，

所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合；

所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。

方案二：

2.一种铝锅抛光工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；

步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；

步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；

步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：

煤油65-75重量份

植物油8-10重量份

猪油20-22重量份。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：