[发明专利]一种SiC晶锭的激光加工设备在审
申请号: | 201910213922.3 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109909627A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 陈畅;柳啸;李春昊;杨深明;李福海;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/40 | 分类号: | B23K26/40;B23K26/064;B23K26/082 |
代理公司: | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 赵胜宝 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶锭 激光 加工 激光加工设备 裂片装置 切割 传送装置 激光光束 加工区域 切装置 改制 聚焦 激光热加工 材料损耗 切片效率 区域重合 发射 传送 | ||
1.一种SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述激光加工设备包括激光隐切装置(1)、激光解裂片装置(2)和传送装置(3);
所述激光隐切装置(1)发射的第一激光光束聚焦到待加工SiC晶锭(4)内部,在所述待加工SiC晶锭(4)内部形成切割改制区域;
所述传送装置(3)用于将所述待加工SiC晶锭(4)传送至所述激光解裂片装置(2)的目标加工区域,所述目标加工区域与所述待加工SiC晶锭(4)内部的切割改制区域重合;
所述激光解裂片装置(2)发射的第二激光光束聚焦到所述待加工SiC晶锭(4)内部的切割改制区域进行激光热加工,从所述待加工SiC晶锭(4)中分离得到SiC片。
2.如权利要求1所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述传送装置(3)包括第一陶瓷运载台(311)、第一双轨直线电机(312);
所述第一陶瓷运载台(311)放置在所述待加工SiC晶锭(4)下,所述第一陶瓷运载台(311)包括多孔质陶瓷吸附板,所述多孔质陶瓷吸附板上均匀分布有直径为2um的气孔,用于吸附所述待加工SiC晶锭(4)的底面;
所述第一双轨直线电机(312)用于放置并传送所述第一陶瓷运载台(311)。
3.如权利要求1所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述传送装置(3)包括第二陶瓷运载台(321)、第二双轨直线电机(322)、折叠机械臂(323);
所述第二陶瓷运载台(321)包括多孔质陶瓷吸附板,所述多孔质陶瓷吸附板上均匀分布有直径为2um的气孔,用于吸附所述待加工SiC晶锭(4)的侧面;
所述折叠机械臂(323)的两端分别与所述第二陶瓷运载台(321)、所述第二双轨直线电机(322)连接;
所述第二双轨直线电机(322)用于通过所述折叠机械臂(323),传送所述第二陶瓷运载台(321)。
4.如权利要求1所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述激光隐切装置(1)包括第一激光器(101)、扩束镜(102)、第一反射镜(103)第二反射镜(104)、光斑衍射元件(105)、第三反射镜(106)、第一聚焦镜(107);所述光斑衍射元件(105)产生的光斑数量范围为3-9个,所述光斑的分布间距为10um~30um。
所述第一激光器(101)发射第一激光光束依次经过所述扩束镜(102)、第一反射镜(103)第二反射镜(104)、光斑衍射元件(105)、第三反射镜(106)并垂直入射至所述第一聚焦镜(107),并经所述第一聚焦镜(107)聚焦到所述待加工SiC晶锭(4)内部,在所述待加工SiC晶锭(4)内部形成切割改制区域。
5.如权利要求4所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述激光隐切装置(1)还包括电荷耦合元件(108),所述电荷耦合元件(108)通过所述第三反射镜(106)、第一聚焦镜(107)对所述切割改制区域进行监控和定位。
6.如权利要求4所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述激光隐切装置(1)中的第一激光器(101)为钕-钇铝石榴石红外激光器,所述第一激光器(101)发射的第一激光光束的波长为1064nm,脉冲宽度范围为1ns~10ns,重复频率范围为50KHz~200KHz,最大平均输出功率小于等于12w。
7.如权利要求4所述的SiC晶锭的激光加工设备,其特征在于,所述激光隐切装置(1)中的第一聚焦镜(107)为短焦距聚焦物镜,放大倍数范围为30倍~70倍。
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