[发明专利]显示面板缺陷高度检测方法在审
申请号: | 201910219437.7 | 申请日: | 2019-03-21 |
公开(公告)号: | CN109884811A | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 张翼 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G01B11/06;G01N21/95 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;张洋 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示面板 白光干涉系统 高度检测 干涉条纹 预设 判定 白光干涉 良率 漏检 制程 成像 | ||
1.一种显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、将显示面板(10)设于白光干涉系统(20)的下方;
步骤S2、该白光干涉系统(20)获取所述显示面板(10)的缺陷(11);
步骤S3、该白光干涉系统(20)利用白光干涉成像对显示面板(10)中的缺陷(11)进行高度检测;当白光干涉系统(20)形成干涉条纹,则判定显示面板(10)中的缺陷(11)的高度大于或等于预设阈值,当白光干涉系统(20)未形成干涉条纹,则判定显示面板(10)中的缺陷(11)的高度小于预设阈值。
2.如权利要求1所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述白光干涉系统(20)包括:光源(21)、设于所述光源(21)一侧的折射透镜组(22)、设于所述折射透镜组(22)上方的摄像部(23)、设于所述折射透镜组(22)下方的反射镜(24)、设于所述反射镜(24)下方的半透镜(25);
所述步骤S3具体为:所述光源(21)发出的入射光(211)经过折射透镜组(22)折射到半透镜(25)上时,该入射光(211)分为反射光线(212)与透射光线(213),反射光线(212)射向反射镜(24)后反射至半透镜(25),再经半透镜(25)反射至折射透镜组(22),再经折射透镜组(22)折射至摄像部(23),透射光线(213)射向显示面板(10)中的缺陷(11)后反射至半透镜(25),再经半透镜(25)透射至折射透镜组(22),再经折射透镜组(22)折射至摄像部(23);
当透射光线(213)到达摄像部(23)的光程等于反射光线(212)到达摄像部(23)的光程时,摄像部(23)会形成干涉条纹,则判定显示面板(10)中的缺陷(11)的高度大于或等于预设阈值;当透射光线(213)到达摄像部(23)的光程大于反射光线(212)到达摄像部(23)的光程时,摄像部(23)无法形成干涉条纹,则判定显示面板(10)中的缺陷(11)的高度小于预设阈值。
3.如权利要求2所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述白光干涉系统(20)还包括与反射镜(24)连接的调节单元(26),该调节单元(26)用于调节反射镜(24)与半透镜(25)之间预设的距离。
4.如权利要求3所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述调节单元(26)为压电陶瓷。
5.如权利要求3所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述反射镜(24)与半透镜(25)之间预设的距离等于预设阈值的高度的缺陷(11)与半透镜(25)之间的距离。
6.如权利要求2所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述反射镜(24)的长度小于所述半透镜(25)的长度。
7.如权利要求2所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述折射透镜组(22)包括相互平行的第一折射透镜(221)和第二折射透镜(222),以及设于所述第一折射透镜(221)和第二折射透镜(222)之间的光反射片(223)。
8.如权利要求7所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述光反射片(223)相对于第二折射透镜(222)倾斜,且所述光反射片(223)与光源(21)发出的入射光(211)的入射方向形成预设角度。
9.如权利要求8所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述预设角度为45°。
10.如权利要求1所述的显示面板缺陷高度检测方法,其特征在于,所述步骤S2具体为:所述白光干涉系统(20)获取显示面板(10)中多个同一颜色的子像素单元(12)的灰阶图像,当一子像素单元(12)的灰阶与预设灰阶相同时,则判定该子像素单元(12)不存在缺陷(11),当一子像素单元(12)的灰阶与预设灰阶不相同时,则判定该子像素单元(12)存在缺陷(11)。
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