[发明专利]显示面板缺陷高度检测方法

说明书

本发明提供一种显示面板缺陷高度检测方法。该显示面板缺陷高度检测方法，将显示面板设于白光干涉系统的下方；该白光干涉系统获取所述显示面板的缺陷；该白光干涉系统利用白光干涉成像对显示面板中的缺陷进行高度检测；当白光干涉系统形成干涉条纹，则判定显示面板中的缺陷的高度大于或等于预设阈值，当白光干涉系统未形成干涉条纹，则判定显示面板中的缺陷的高度小于预设阈值，可以避免漏检漏修高度异常的缺陷，提高工艺制程良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板缺陷高度检测方法。

背景技术

薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。

OLED器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED器件通常采用氧化铟锡(ITO)电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。

在显示面板的生产过程中，工艺制程会不可避免的在显示面板上产生缺陷，后续需要对该缺陷进行修补。现有的缺陷判定逻辑均是基于2D的图像比对，即利用图像的颜色(灰阶)差异以及差异的面积大小进行判定。现有技术通过在显示面板的上方与下方分别设置反射CCD(电荷耦合器件)相机和透射CCD相机，通过反射CCD相机和透射CCD相机分别接收反射光讯号和透射光讯号，利用像素单元图形的重复性，比对若干像素单元重复的图形，判断是否每个像素单元的灰阶是否一致，判定当前的图像中是否存在缺陷。然而在LCD液晶盒厚(Cell Gap)减薄的工艺技术逐渐成熟以及OLED多层蒸镀技术普及的趋势下，缺陷的高度越来越成为影响产品良率的关键，单纯以2D图像的灰阶差异判定缺陷的逻辑会造成小而高的缺陷漏判，无法满足良率的需求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板缺陷高度检测方法，可以避免漏检漏修高度异常的缺陷。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示面板缺陷高度检测方法，包括如下步骤：

步骤S1、将显示面板设于白光干涉系统的下方；

步骤S2、该白光干涉系统获取所述显示面板的缺陷；

步骤S3、该白光干涉系统利用白光干涉成像对显示面板中的缺陷进行高度检测；当白光干涉系统形成干涉条纹，则判定显示面板中的缺陷的高度大于或等于预设阈值，当白光干涉系统未形成干涉条纹，则判定显示面板中的缺陷的高度小于预设阈值。

所述白光干涉系统包括：光源、设于所述光源一侧的折射透镜组、设于所述折射透镜组上方的摄像部、设于所述折射透镜组下方的反射镜、设于所述反射镜下方的半透镜；