[发明专利]一种氢氧化镁粉体的制备方法在审
申请号: | 201910219648.0 | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN109761252A | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 郑岐;王洪英;平振丰 | 申请(专利权)人: | 中民驰远实业有限公司 |
主分类号: | C01F5/16 | 分类号: | C01F5/16;B82Y40/00 |
代理公司: | 大连大工智讯专利代理事务所(特殊普通合伙) 21244 | 代理人: | 崔雪;梁左秋 |
地址: | 115103 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氢氧化镁粉体 制备 脉冲电流 脉冲频率 平均粒径 氢氧化镁 施加 微观组织结构 微观组织形貌 轻烧氧化镁 水化反应 | ||
1.一种氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:利用轻烧氧化镁通过水化反应制备氢氧化镁粉体时,通过对反应体系内施加脉冲电流的方法制备氢氧化镁粉体。
2.根据权利要求1所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,施加在反应体系内的脉冲电流大小为5~1000A,使用的脉冲频率为50~2000Hz。
3.根据权利要求2所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,所述脉冲电流大小为100~500A,使用的脉冲频率为100~1000Hz。
4.根据权利要求1所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,所述脉冲时间为1-10h。
5.根据权利要求1所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,氢氧化镁粉体的制备方法,包括以下步骤:利用轻烧氧化镁通过水化反应制备氢氧化镁粉体时,在反应体系两侧施加脉冲电流。
6.根据权利要求1所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,所述氢氧化镁粉体的制备方法,包括以下步骤:将承装轻烧氧化镁的反应槽加热至70-80℃,然后在反应槽两侧施加脉冲电流,所述脉冲电流大小为100~500A,使用的脉冲频率为100~1000Hz,施加脉冲电流时间为1-10h;从反应槽内取出水化产物氢氧化镁,置于100-150℃下干燥5-20小时,制备得到氢氧化镁粉体。
7.根据权利要求1-6任意一项所述氢氧化镁粉体的制备方法,其特征在于,所述氢氧化镁粉体包括MgO,SiO2,CaO,Al2O3和Fe2O3。
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