[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示装置有效
申请号: | 201910222391.4 | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN109817693B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 程磊磊;苏同上;王庆贺;李广耀;宋威;刘宁;张扬;黄勇潮 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
本发明涉及显示技术领域,提出一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该阵列基板包括第一电极层,第一电极层可以包括氧化铟锡层与平坦化层,氧化铟锡层设置在一基板之上,包括颗粒状氧化铟锡;平坦化层设于氧化铟锡层远离基板的一侧,且平坦化层填充至少部分所述颗粒状氧化铟锡之间的间隙,平坦化层能够导电。对阵列基板中第一电极层中的氧化铟锡进行颗粒化处理形成颗粒化氧化铟锡,形成微腔,在颗粒状氧化铟锡远离基板的一侧设置有能够导电的平坦化层,平坦化层与氧化铟锡层构成第一电极层,利用微腔效应解决了现有技术中有机发光层与第一电极层之间的光波导效应,颗粒状氧化铟锡具有电极特性,提升了透过率,增强了阵列基板的出光效率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法和显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展,人们对显示器的要求也日益增高,阵列基板决定着显示器的显示效果。
目前,阵列基板中,有机发光层发出的光在阳极层和各有机材料中传播时,由于折射率的不同,容易在阳极层和各有机材料交界面处产生光波导效应,从而导致高达约50%的光损失。有机发光层发出的光在传输过程中到达阳极层出光时,受到衬底或空气界面全反射的影响,入射角大于临界角的光发生全反射,有高达约30%的光在衬底内传播而不能耦合到空气中,使得阵列基板的出光效率较低。
因此有必要设计一种新的阵列基板及其制备方法和显示装置。
所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本发明的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于缓解上述现有技术的阵列基板出光效率低的不足,提供一种出光效率较高的阵列基板及其制备方法和显示装置。
本发明的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地将从描述中变得显然,或者可以通过本发明的实践而习得。
根据本发明的一个方面,一种阵列基板,包括第一电极层,所述第一电极层包括:
氧化铟锡层,设置在一基板之上,包括颗粒状氧化铟锡;
平坦化层,设于所述氧化铟锡层远离所述基板的一侧,且所述平坦化层填充至少部分所述颗粒状氧化铟锡之间的间隙,所述平坦化层能够导电。
在本公开的一种示例性实施例中,所述阵列基板还包括:
绝缘层,设于所述基板与所述氧化铟锡层之间,所述颗粒状氧化铟锡与所述绝缘层接触。
在本公开的一种示例性实施例中,位于不同位置的所述的颗粒状氧化铟锡的大小不同,以改变不同波长的光的出光效率。
在本公开的一种示例性实施例中,所述阵列基板包括出光区域和非出光区域,位于出光区域的氧化铟锡层为颗粒状氧化铟锡。
在本公开的一种示例性实施例中,所述平坦化层的材料包括PEDOT:PSS。
在本公开的一种示例性实施例中,所述氧化铟锡层的厚度大于等于10nm小于等于30nm。
在本公开的一种示例性实施例中,所述阵列基板还包括:
有机发光层,设于所述平坦化层远离所述氧化铟锡层的一侧;
第二电极层,设于所述有机发光层远离所述平坦化层的一侧;
封装层,设于所述第二电极层远离所述有机发光层的一侧。
根据本公开的一个方面,提供一种阵列基板的制备方法,包括形成第一电极层,所述形成第一电极层包括:
提供一基板;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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