[发明专利]一种纳米压印模具及其制作方法和纳米压印方法

权利要求书

1.一种纳米压印模具，其特征在于，包括：

支撑基底；

压印层，所述压印层上背离所述支撑基板的一面具有与预设图形相对应的凸起结构，所述凸起结构对应的区域为吸光区域，相邻的凸起结构之间形成透光区域。

2.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述支撑基底与所述压印层为一体成型结构，所述一体成型结构通过吸光材料制成；

其中，所述支撑基底的透光率大于或等于50％。

3.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述支撑基底为透光基底，所述压印层采用吸光材料制成。

4.如权利要求1所述的纳米压印模具，其特征在于，所述压印层包括：

位于背离所述支撑基底的一面的结构层，其中，所述结构层具有与所述凸起结构相对应的遮光件，所述遮光件在所述支撑基底的正投影与所述吸光区域相互重合；

位于所述结构层中相邻的遮光件之间，以及位于所述结构层远离所述支撑基底一侧的平坦化层；

位于所述平坦化层远离所述支撑基底一侧，且具有所述凸起结构的凸起结构层。

5.如权利要求4所述的纳米压印模具，其特征在于，所述遮光件为黑矩阵，或者，所述遮光件由吸光材料制成。

6.一种纳米压印模具的制作方法，其特征在于，包括：

提供支撑基底，并在所述支撑基板的一面形成压印层；

其中，所述压印层具有与预设图形相对应的凸起结构，所述凸起结构对应的区域为吸光区域，相邻的凸起结构之间形成透光区域。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，提供支撑基底，并在所述支撑基底的一面形成压印层，包括：

在模板载体上沉积一层遮光层，其中，所述遮光层由吸光材料制成；

对位于所述透光区域的部分遮光层进行刻蚀，形成一体成型的所述支撑基底和所述压印层。

8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，提供支撑基底，并在所述支撑基底的一面形成压印层，包括：

在模板载体上沉积一层透光层，形成所述支撑基底；

在所述支撑基底的一面沉积一层遮光层，其中，所述遮光层采用吸光材料制成；

对位于所述透光区域的部分遮光层进行刻蚀，形成所述压印层。

9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述支撑基板的一面形成压印层，包括：

在背离所述支撑基底的一面沉积一层结构层，其中，所述结构层具有多个遮光件；

在所述结构层中相邻的遮光件之间，以及所述结构层远离所述支撑基底一侧沉积一层平坦化层；

在所述平坦化层远离所述支撑基底一侧沉积一层压胶层；

对所述压胶层进行刻蚀，形成具有与预设图形相对应的凸起结构，所述凸起结构对应的区域为吸光区域，相邻的凸起结构之间形成透光区域，且所述吸光区域与所述遮光件在所述支撑基底的正投影相互重合，形成所述压印层。

10.一种纳米压印方法，其特征在于，包括：

采用如权利要求1-5任一项所述的纳米压印模具与涂覆有纳米压印胶层的基板对位；

将所述纳米压印模具压入所述纳米压印胶层；

在所述纳米压印模具一侧照射紫外光，通过所述紫外光固化位于所述透光区域的所述纳米压印胶层；

通过溶剂溶解所述基板上的纳米压印胶层中未被固化的部分纳米压印胶层，形成所述预设图形。