[发明专利]一种自锁柱腔及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201910240483.5 申请日: 2019-03-28
公开(公告)号: CN109949949A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 魏胜;蒋柏斌;谢军;袁光辉;杨洪;梁榉曦;童维超;高莎莎;任玮 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G21B1/19 分类号: G21B1/19;G21B1/03
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 翟长明;韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 柱腔 凹止口 凸止口 外接柱 自锁柱 内接 圆锥 插接处 自锁 惯性约束聚变 对接端面 圆锥面相 自行脱落 粘胶 粘接 制备 装配 污染 配合
【权利要求书】:

1.一种自锁柱腔,其特征在于:所述的自锁柱腔包括外接柱腔(1)和内接柱腔(2),外接柱腔(1)的插接处设置有凹止口(3),内接柱腔(2)的插接处设置有凸止口(4),凹止口(3)和凸止口(4)以圆锥面相配合;凹止口(3)的圆锥角度与凸止口(4)的圆锥角度相同,凹止口(3)和凸止口(4)的圆锥角度小于自锁角度;

所述的凹止口(3)的长度小于凸止口(4)的长度,凹止口(3)的根部设置有圆柱面,凹止口(3)根部的直径大于凸止口(4)前端的直径;

所述的外接柱腔(1)和内接柱腔(2)为同轴心设置。

2.根据权利要求1所述的自锁柱腔,其特征在于:所述的外接柱腔(1)和内接柱腔(2)的材料为金。

3.根据权利要求1所述的自锁柱腔,其特征在于:所述的外接柱腔(1)和内接柱腔(2)的内表面的表面粗糙度为Ra0.1。

4.根据权利要求1所述的自锁柱腔,其特征在于:所述的外接柱腔(1)和内接柱腔(2)的内径公差为±5微米。

5.一种自锁柱腔的使用方法,其特征在于,包括以下步骤:

a.加工外接柱腔(1)和内接柱腔(2);

b.将内接柱腔(2)插入外接柱腔(1),内接柱腔(2)和外接柱腔(1)的圆锥面配合,直至压紧;

c.在卡爪(3)与内接柱腔(2)的外表面接触位置涂胶密封。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910240483.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top