[发明专利]图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法

权利要求书

1.一种图案宽度校正系统，包括：

图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；

第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；

回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以生成所述第一图案的X-Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间的第一关系表达式；

第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及

图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。

2.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，所述图案数据校正单元基于所述第二误差数据生成第一矢量数据，转换所述第一矢量数据以生成第一位图数据，并且基于所述第一位图数据校正所述第一图案数据，以生成所述第二图案数据。

3.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，所述图案数据校正单元使用所述第一图案的形状生成第一位图数据，基于所述第二误差数据修改所述第一位图数据以生成第二位图数据，并且基于所述第二位图数据校正所述第一图案数据，以生成所述第二图案数据。

4.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，

其中，所述图案宽度测量单元测量使用所述第二图案数据形成的第二图案的宽度，

其中，所述第一误差数据计算器基于所述第二图案的测量宽度生成第三误差数据，并且

其中，所述图案数据校正单元确定所述第三误差数据的大小是否小于期望的允许范围。

5.根据权利要求4所述的图案宽度校正系统，其中，当所述第三误差数据的大小大于或等于所述期望的允许范围时，

所述回归分析器对所述第三误差数据执行回归分析，以计算所述第二图案的X-Y坐标与所述第二图案的宽度误差之间的第二关系表达式，

所述第二误差数据计算器使用所述第二关系表达式在所述操作区域中生成第四误差数据，并且

所述图案数据校正单元基于所述第四误差数据校正所述第二图案数据，以生成第三图案数据。

6.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，所述第一误差数据对应于所述第一图案的测量宽度与所述第一图案的期望目标宽度之间的差值。

7.根据权利要求6所述的图案宽度校正系统，

其中，所述第一误差数据包括X分量误差数据和Y分量误差数据，

其中，所述X分量误差数据对应于所述第一图案的测量宽度的X分量的平均值与所述第一图案的期望目标宽度的X分量之间的差值，并且

其中，所述Y分量误差数据对应于所述第一图案的测量宽度的Y分量的平均值与所述第一图案的期望目标宽度的Y分量之间的差值。

8.根据权利要求6所述的图案宽度校正系统，其中，所述第一误差数据对应于所述第一图案的测量宽度的整体平均值与所述第一图案的期望目标宽度之间的差值。

9.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，所述回归分析器使用伪逆矩阵生成所述第一关系表达式。

10.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，所述第一距离大于所述第二距离。

11.根据权利要求1所述的图案宽度校正系统，其中，通过将所述操作区域的中心点的坐标代入所述第一关系表达式来生成所述第二误差数据。