[发明专利]图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法

说明书

本发明提供了一种图案宽度校正系统以及一种制造半导体设备的方法。所述图案宽度校正系统包括：图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以在所述第一图案的X‑Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间生成第一关系表达式；第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年7月6日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0078657的优先权，其公开内容以引用方式全文并入本文中。

技术领域

本发明构思的示例性实施例涉及一种图案宽度校正系统和使用该系统制造半导体装置的方法。

背景技术

通常，在包含在液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、平板显示器(FPD)、有机发光二极管(OLED)面板，或类似装置的基板上形成图案的方法包括将图案材料施加到基板上，并使用光掩模选择性地曝光图案材料，以选择性地去除具有改变的化学性质的特定图案材料部分或除特定图案材料的图案之外的其余部分，从而形成图案。

然而，随着基板的尺寸逐渐增大并且图案的精度也逐渐增加，最近已经开发出能够在不使用光掩模的情况下在基板上形成期望图案的无掩模曝光设备。无掩模曝光设备通过借助于电子装置利用形成为电信号的图案信息将光束转移到基板上来形成图案。所述电子装置的代表性示例是数字微镜装置(DMD)。在DMD中，通过多个微镜仅利用需要的光在暴露面上曝光图案，所述多个微镜以期望的角度发射以期望的角度入射的光，并以其他角度发射以其他角度入射的光。

发明内容

根据本发明构思的示例性实施例，一种图案宽度校正系统包括：图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中，所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以生成所述第一图案的X-Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间的第一关系表达式；第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。

根据本发明构思的示例性实施例，一种图案宽度校正系统包括：图案形成单元，配置为使用第一图案数据在基板上形成第一图案；图案宽度测量单元，配置为测量所述第一图案的宽度；以及图案宽度校正单元，配置为生成所述第一图案的测量宽度的第一误差数据，使用所述第一误差数据生成所述基板的位置和所述第一图案的宽度误差的第一关系表达式，通过将所述基板的第一位置代入所述第一关系表达式来计算所述第一图案在所述第一位置处的第一宽度误差，并且通过使用所述第一图案在所述第一位置处的所述第一宽度误差校正在所述第一位置处的所述第一图案数据来生成第二图案数据。

根据本发明构思的示例性实施例，一种制造半导体设备的方法包括：使用第一图案数据在第一基板上形成第一图案；通过使用所述第一图案校正所述第一图案数据来生成第二图案数据；以及使用所述第二图案数据在第二基板上形成第二图案。生成所述第二图案数据包括：测量所述第一图案的宽度，生成所述第一图案的测量宽度的第一误差数据，使用所述第一误差数据生成所述第一基板的位置与所述第一图案的宽度误差之间的第一关系表达式，通过将所述第一基板的第一位置代入所述第一关系表达式来计算所述第一图案在所述第一位置处的第一宽度误差，并且使用所述第一图案在所述第一位置处的所述第一宽度误差生成所述第二图案数据。

附图说明