[发明专利]显示基板及制造方法和亮度补偿方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910245432.1 申请日: 2019-03-28
公开(公告)号: CN109920835B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 胡伟频;姜明宵;卜倩倩;魏从从;王纯;贾一凡;孙晓;邱云;王丹 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 制造 方法 亮度 补偿 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示基板及制造方法和亮度补偿方法、显示装置,属于显示技术领域,其可至少部分解决现有的WOLED显示基板无法实现实时亮度补偿的问题。本发明的显示基板中,第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜,导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触,选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射;显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件,每个光检测器件对应一个第一电极结构,光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。

技术领域

本发明属于显示技术领域,具体涉及一种显示基板、一种显示基板的制造方法、一种显示装置、一种显示基板的亮度补偿方法。

背景技术

现有的WOLED显示基板如需进行亮度补偿,则需要专门的设备(例如CCD)实际去测量所发出的光的亮度,然后与预期亮度相比较对显示数据进行修正。如何实现WOLED显示基板亮度的实时补偿成为本领域技术人员急需解决的技术问题。

发明内容

本发明至少部分解决现有的OLED显示基板不能实时亮度补偿的问题,提供一种显示基板、一种显示基板的制造方法、一种显示装置、一种显示基板的亮度补偿方法。

根据本发明第一方面,提供一种显示基板,包括第一基底、设置在第一基底上的多个第一电极结构、设置在第一电极结构背离第一基底一侧的有机功能层,每个第一电极结构对应一个彩色亚像素,有机功能层覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构,第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜,导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触,选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射;

显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件,每个光检测器件对应一个第一电极结构,光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。

可选地,导电层包括透明的第一导电子层和透明的第二导电子层,选择性透反膜位于第一导电子层和第二导电子层之间,第一导电子层和第二导电子层电连接。

可选地,选择性透反膜包括光子晶体。

可选地,还包括设置在有机功能层背离第一基底一侧的第二电极结构。

可选地,光检测器件设置在第一电极结构与第一基底之间。

可选地,光检测器件设置在第一基底背向对应的第一电极结构的一侧。

根据本发明第二方面,提供一种显示基板的制造方法,包括:

在第一基底上形成多个第一电极结构的步骤,其中,每个第一电极结构对应一个彩色亚像素,第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜,选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射,导电层在远离第一基底一侧具有裸露表面;

在导电层的裸露表面上形成有机功能层的步骤,其中,有机功能层覆盖多个第一电极结构,有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触导电层;

在第一电极结构背向有机功能层一侧形成多个光检测器件的步骤,其中,每个光检测器件对应一个第一电极结构,光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。

根据本发明第三方面,提供一种显示装置,包括显示基板,该显示基板为根据本发明第一方面的显示基板。

可选地,还包括与显示基板相对的彩膜基板,彩膜基板中设置有不同颜色的彩色滤光膜,每个彩色滤光膜对应一个第一电极结构。

根据本发明第四方面,提供一种显示基板的亮度补偿方法,基于本发明第一方面的显示基板,该亮度补偿方法包括:

根据显示数据控制亚像素发光;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910245432.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top