[发明专利]一种OLED显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明提供一种OLED显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的OLED中在像素界定结构位置处易产生漏光的问题。本发明的OLED显示基板中相当于在像素界定结构内倾斜插入了反射膜层，将像素发光区可能产生的漏光反射回像素区，从而避免漏光，提高了发光效率。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种OLED显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(OLED)显示装置，通常由像素界定结构限定出像素区，像素区设有像素发光区；为避免像素界定结构(PDL)

吸收光，造成出光效率降低，PDL一般由透明材料构成，但是会存在PDL处向OLED的出光侧产生逸出光，形成漏光。

发明内容

本发明针对现有的OLED中在像素界定结构位置处易产生漏光的问题，提供一种OLED显示基板及其制备方法、显示装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是：

一种OLED显示基板，所述OLED显示基板具有出光侧，所述OLED显示基板包括衬底，所述衬底上设有像素界定结构，所述像素界定结构包括界定每个像素发光区的第一像素界定结构，所述第一像素界定结构包括朝向每个像素发光区的端面，在一个或多个所述端面上设置有反射膜层。

可选的是，每个所述反射膜层覆盖整个所述端面，形成一个围设所述像素发光区的连续的曲面。

可选的是，所述第一像素界定结构包括在所述衬底上依次叠层设置的第二平坦化层和第一平坦化层，所述第一平坦化层和第二平坦化层的端面形成坡面，所述坡面随着第一平坦化层和第二平坦化层与所述衬底距离的增加而远离所述像素发光区。

可选的是，所述像素界定结构还包括第二像素界定结构，所述第二像素界定结构设置在所述第一像素界定结构的所述端面延伸到第一像素界定结构的顶部和底部且覆盖所述反射膜层的绝缘层。

可选的是，所述第二像素界定结构由透明材料构成。

可选的是，所述坡面形成的坡度夹角范围为50-70°。

可选的是，所述反射膜层延伸至所述第一像素界定结构的顶面并覆盖至少部分所述第一像素界定结构的顶面；所述第二像素界定结构延伸到第一像素界定结构的顶面，且不超过所述第一像素界定结构顶面的反射膜层。

可选的是，相邻像素发光区之间的反射膜层连为一体，形成一个纵截面为倒立的梯形结构，所述反射膜层覆盖所述第一像素界定结构。

可选的是，所述像素发光区包括靠近衬底一侧的阳极，远离衬底一侧设置的阴极，以及设于阳极与阴极之间的发光层，所述阳极与衬底之间设有图案化的第三平坦化层。

可选的是，所述第三平坦化层的厚度大于所述第一平坦化层的厚度，小于所述第二平坦化层的厚度，且所述第三平坦化层的横截面由下至上逐渐增大。

可选的是，所述第三平坦化层与所述反射膜层之间有间隙；所述阳极设置在第三平坦层上，且与反射膜层有间隙，所述第二像素界定结构覆盖所述反射膜层且填充所述间隙。

可选的是，所述发光层设置在所述阳极上方，且所述发光层不超过所述阳极的边缘；所述阴极覆盖所述发光层，所述阴极的水平面低于所述第一像素界定结构的顶面。

本发明还提供一种OLED显示基板的制备方法，所述制备方法具体包括以下制备步骤：

在衬底上的像素区形成图案化的第三平坦化层；

在衬底上的非像素区形成图案化的第二平坦化层；

在第三平坦化层背离衬底的一侧形成像素发光区的阳极；