[发明专利]一种掩膜板

说明书

本发明公开了一种掩膜板，包括阻挡区及通透区，其中所述阻挡区与所述通透区之间还设有镂空区，所述镂空区内设置有第一通孔。本发明提供了一种掩膜板，通过在所述阻挡区及通透区之间增加镂空区域设计，在正常沉积相应膜层时可以适当增加掩膜板与基板之间的间距，避免成膜时膜面刮伤或膜层连续的情况；并且使用半镂空设计，可以在掩膜板与基板之间的间距较大的情况下减少沉积膜层时的阴影效应，进而能够实现窄边框设计，同时提升封装效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种用于薄膜封装的掩膜板。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)等自发光器件具有自发光，视角广，寿命长，节能环保等特点，目前OLED显示器与照明行业发展迅速，已成为重要的显示设计。其中薄膜封装是一种优选的应用于类似OLED等自发光器件的封装方式。通过在OLED基板表面沉积各功能层薄膜达到阻隔水氧的目的，无须使用其他盖板，易于实现柔性显示。

目前薄膜封装结构一般使用掩膜板用来形成有效面积区域，但是因沉膜时会有阴影效应(Shadow effect)导致边缘面积较大，不利于窄边框与封装效果。

请参阅图1，在基板1上的OLED膜层2形成无机膜层3时，如果降低掩膜板4与基板1之间的间距可减少阴影效应，容易刮伤OLED膜层2且容易在OLED膜层2和掩膜板4间产生的连续无机膜层3。请参阅图2，在OLED膜层2和掩膜板4脱离时无机膜层3破裂也会产生大量粒子。请参阅图3，如果增加掩膜板4与基板1之间间距会增加阴影效应，在基板1上形成无机膜层3时，在无机膜层3的边缘容易产生阴影效应区5，即无机材料会在设定的成膜区域外围继续沉积，使实际的成膜区域大于设定的成膜区域，不利于窄边框的实现。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种掩膜板，通过增加镂空区域设计，以解决在正常沉积相应膜层时可以适当增加掩膜板与基板之间的间距来避免成膜时膜面刮伤或膜层连续的情况，并且在掩膜板与基板之间的间距较大的情况下减少沉积膜层时的阴影效应，进而能够实现窄边框设计，同时提升封装效果。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

本发明一实施例中提供了一种掩膜板，包括阻挡区及通透区，其中所述阻挡区与所述通透区之间还设有镂空区，所述镂空区设置有第一通孔。

进一步的，其中所述镂空区环绕所述通透区设置。

进一步的，其中所述镂空区宽度范围为100um～2mm。

进一步的，其中所述第一通孔数量为多个，这些所述第一通孔的横截面面积之和占所述镂空区面积的10％～90％。

进一步的，其中所述第一通孔数量为多个，这些第一通孔阵列排布于所述镂空区。

进一步的，其中所述镂空区还设置有第二通孔，所述第二通孔横截面的面积小于所述第一通孔横截面的面积。

进一步的，其中所述第一通孔和第二通孔的横截面面积之和占所述镂空区面积的10％～90％。

进一步的，其中所述第一通孔包括2个或以上数量，所述第二通孔包括2个或以上数量，由所述第一通孔构成的纵列平行于由所述第二通孔构成的纵列。

进一步的，其中所述第一通孔包括2个或以上数量，所述第二通孔包括2个或以上数量，其中由所述第一通孔构成的横列平行于由所述第二通孔构成的横列。

进一步的，其中所述第一通孔的截面形状包括圆形、三角形、四边形以及多边形中的一种。