[发明专利]清理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置的部件的清理方法，其中，

所述清理方法具备去除形成在设置于所述等离子体处理装置且载置被处理体的载置台上的反应产物的工序，

所述载置台具备设置于所述等离子体处理装置且进行基于制冷剂的热交换的热交换部，

去除所述反应产物的所述工序具备：

将伪晶片载置于所述载置台的工序；

使所述载置台的温度上升的工序；以及

在使所述载置台的温度上升后引入混合气体以进行所述反应产物的去除的工序，

使所述载置台的温度上升的所述工序中，打开位于将从所述热交换部排出且经压缩后的所述制冷剂冷凝并供给到该热交换部的冷凝器的输出端与该热交换部的输入端之间的膨胀阀的同时向所述载置台输入热量，并且打开位于将从该热交换部排出的该制冷剂压缩并供给到该冷凝器的压缩器的输出端与该热交换部的输入端之间的分流阀的同时调节该分流阀的开度，由此使该载置台的温度上升，

响应于时间的经过，在所述分流阀被关闭的同时结束向所述载置台的热量输入，

在去除所述反应产物的所述工序的整个期间所述膨胀阀被保持为以固定的值开放，在去除所述反应产物的所述工序期间调整所述分流阀的开度。

2.根据权利要求1所述的清理方法，其中，

所述反应产物具有碳、氟以及硅。

3.根据权利要求1所述的清理方法，其中，

所述混合气体包括包含氟的气体与包含氧的气体。

4.根据权利要求3所述的清理方法，其中，

所述包含氟的气体包含CF₄、NF₃、C₄F₈中的至少一种，

所述包含氧的气体包含O₂、O₃、CO、CO₂、COS中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的清理方法，其还具备根据进行所述反应产物的去除的所述工序的结束而结束向所述载置台的热量输入的工序。

6.根据权利要求1所述的清理方法，其中，

向所述载置台的热量输入通过等离子体来进行。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的清理方法，其中，

所述载置台具备加热器，

向所述载置台的热量输入通过所述加热器来进行。