[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质

说明书

本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，能够缩短装置的停机时间。基板处理装置(10)具备：处理单元(16)，其对晶圆(W)进行处理；罐(102、202)，其贮存处理液；处理液供给部(103、203)，其将罐内的处理液供给至处理单元；排出部(110、210)，其将罐内的处理液排出；补充部(112、212)，其将处理液补充至罐；以及控制部(18)，其中，控制部构成为执行以下控制：控制处理液供给部并且控制处理单元来实施处理工作；以及当在处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制排出部并且控制补充部，以使液更换处理与处理工作并行地实施。

技术领域

本公开涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。

背景技术

在专利文献1中记载有一种对旋转的基板供给处理液来对基板进行清洗或蚀刻等处理的装置。在这样的装置中，使用泵等送液机构将罐中贮存的处理液供给至基板。

专利文献1：日本特开2006-269743号公报

发明内容

发明要解决的问题

定期地将罐中贮存的处理液更换为新的处理液(进行液交换)。在此，例如在正实施处理工作的情况下，即使到了液更换定时也不实施液更换处理，直到该处理工作结束为止。即，通常在处理工作完成之后实施液更换处理。在正实施液更换处理的期间不能实施处理工作，因此，由于在完成处理工作之后实施液更换处理而导致装置的停机时间(装置无法实施处理工作的时间)变长。

因此，本公开的目的在于缩短装置的停机时间。

用于解决问题的方案

本公开的一个观点所涉及的基板处理装置具备：基板处理部，其利用处理液对基板进行处理；贮存部，其贮存处理液；处理液供给部，其将贮存部内的处理液供给至基板处理部；排出部，其将贮存部内的处理液排出；补充部，其将处理液补充至贮存部；以及控制部，其中，控制部构成为执行以下控制：控制处理液供给部以向基板处理部供给处理液，并且控制基板处理部以利用处理液对基板进行处理，由此实施处理工作；以及当在处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制排出部以将贮存部内的处理液排出，并且控制补充部以向贮存部内补充新的处理液，使液更换处理与处理工作并行地实施。

本公开的其它观点所涉及的基板处理方法包括以下工序：第一工序，实施利用处理液对基板进行处理的处理工作；以及第二工序，当在处理工作中规定的液更换实施条件成立的情况下，与处理工作并行地实施液更换处理，该液更换处理是将用于贮存处理液的贮存部内的处理液排出并且向贮存部内补充新的处理液的处理。

发明的效果

根据本公开，能够缩短装置的停机时间。

附图说明

图1是示意性地表示基板处理系统的俯视图。

图2是表示基板处理系统所包括的基板处理装置的概要结构的图。

图3是表示处理单元的概要结构的图。

图4是表示控制部的功能块的图。

图5是表示处理工作的时间图的一例的图。

图6是用于说明液更换处理过程的流程图。

图7是用于说明其它实施方式所涉及的液更换处理的图。

具体实施方式

以下说明的本公开所涉及的实施方式是用于说明本发明的例示，因此本发明不应限定于以下的内容。在以下的说明中，对相同要素或具有相同功能的要素使用相同标记，并且省略重复的说明。