[发明专利]大容量真空控制装置在审

专利信息
申请号: 201910262524.0 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN111765130A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 游平政;宇威寰 申请(专利权)人: 台湾气立股份有限公司
主分类号: F04F5/22 分类号: F04F5/22;F04F5/44;F04F5/52
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 王立民;曾晨
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 容量 真空 控制 装置
【权利要求书】:

1.一种大容量真空控制装置,其特征在于,包含有:一本体(10),具有一控气室(11)供一真空发生二口二位阀(21)与一真空破坏二口二位阀(31)设置,且该控气室(11)连通至本体(10)外部设置的一真空发生电磁阀(20)与一真空破坏电磁阀(30),一气压源(12)连通该控气室(11)至该本体(10)内的一进气室(50),一吸入口(13)与一真空压力开关(40)连通该本体(10)内的一流道(15)配合一逆止阀(151)至一吸气室(51),该进气室(50)的侧壁设置二真空产生器(60)贯穿一吸气室(51)与一排气室(52),该排气室(52)还设有一消音器(521)形成一排出口(14),借该真空产生器(60)并联让该吸入口(13)的流量增加,以利用该真空发生电磁阀(20)与该真空破坏电磁阀(30)分别控制真空发生与破坏。

2.根据权利要求1所述的大容量真空控制装置,其特征在于,该本体(10)还包含有:一真空过滤网(131),设于该吸入口(13)与该本体(10)内的连接处。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾气立股份有限公司,未经台湾气立股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910262524.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top