[发明专利]大容量真空控制装置在审
申请号: | 201910262524.0 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN111765130A | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 游平政;宇威寰 | 申请(专利权)人: | 台湾气立股份有限公司 |
主分类号: | F04F5/22 | 分类号: | F04F5/22;F04F5/44;F04F5/52 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 王立民;曾晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 容量 真空 控制 装置 | ||
1.一种大容量真空控制装置,其特征在于,包含有:一本体(10),具有一控气室(11)供一真空发生二口二位阀(21)与一真空破坏二口二位阀(31)设置,且该控气室(11)连通至本体(10)外部设置的一真空发生电磁阀(20)与一真空破坏电磁阀(30),一气压源(12)连通该控气室(11)至该本体(10)内的一进气室(50),一吸入口(13)与一真空压力开关(40)连通该本体(10)内的一流道(15)配合一逆止阀(151)至一吸气室(51),该进气室(50)的侧壁设置二真空产生器(60)贯穿一吸气室(51)与一排气室(52),该排气室(52)还设有一消音器(521)形成一排出口(14),借该真空产生器(60)并联让该吸入口(13)的流量增加,以利用该真空发生电磁阀(20)与该真空破坏电磁阀(30)分别控制真空发生与破坏。
2.根据权利要求1所述的大容量真空控制装置,其特征在于,该本体(10)还包含有:一真空过滤网(131),设于该吸入口(13)与该本体(10)内的连接处。
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