[发明专利]大容量真空控制装置在审

专利信息
申请号: 201910262524.0 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN111765130A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 游平政;宇威寰 申请(专利权)人: 台湾气立股份有限公司
主分类号: F04F5/22 分类号: F04F5/22;F04F5/44;F04F5/52
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 王立民;曾晨
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 容量 真空 控制 装置
【说明书】:

发明公开了一种大容量真空控制装置,其本体内具有一控气室,能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置其中,且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀,一气压源连通该控制室至该本体内的一进气室,一吸入口与一真空压力开关则连通至本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室,该进气室的侧壁设置二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室,该排气室还设有一消音器形成一排出口,借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加,利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏,借以获得真空节能的效果,让吸入口能于吸附工件时,不需持续大量输入压缩空气,就能保持一定时间进行相对应的动作。

技术领域

本创作关于一种大容量真空控制装置,本体内部通过并联方式连接二真空产生器,让吸入口的流量得以提升外,更配置真空发生电磁阀与真空破坏电磁阀,使其能各别控制真空发生与真空破坏的状态。

背景技术

在目前工业自动化的发展过程中,气动真空技术已广泛应用于各种生产线中,请参阅图14所示,现有技术中的真空产生器(90)可见有一气压源(91)、一吸入口(92)以及一排出口(93),其内部构造相当简易,其运作是通过压缩空气由该气压源(91)输入通过该排出口(93)进行排气,通过卷吸作用使该吸入口(92)产生真空吸附的效果,进而达到吸附工件的目的;

前述真空产生器(90)为一种喷射式的真空产生器(90),通过压缩空气通过气压源(91)内设的喷嘴(94)产生一定程度的真空,根据其工作原理,它只能在更高的供应压力下达到极限真空度,且耗气量甚大,并不利于气动系统的节能。

因此,后续该类真空产生器(90)大致发展出高真空型和高抽吸流量型,前者曲线斜率大、后者平坦。但在喷嘴(94)直径一定的情况下,要获得高真空,则必然降低抽吸流量,而为获得大吸入流量,则必然增加其吸入口处的压力;又或者是可采用设计多及扩大压管方式,以两个三级扩压管式真空产生器并联,能使吸入流量再增加一倍,但也会让压缩空气的消耗量也增加一倍。

因此,由上述对于目前真空产生器的缺点,能够了解到实际使用上的各种问题,有鉴于此,本创作人透过精心的规划与设计,将保持真空吸力以及使压缩空气消耗量减少的设计特点整合重新设计出一种大容量真空控制装置,借以改善现有技术中的结构的各种问题。

发明内容

本创作主要之一目的,旨在提供一种让吸入口的流量增加以及能以真空发生电磁阀与真空破坏电磁阀进行各别控制真空发生与破坏的一种大容量真空控制装置。

为达上述目的,本创作之一种大容量真空控制阀,其包含有:一本体内具有一控气室,能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置,且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀,而一气压源连通该控气室至该本体内的一进气室,而一吸入口与一真空压力开关则连通该本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室,该进气室的侧壁设置有二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室,该排气室更设有一消音器形成一排出口,借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加,且利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏的目的。

而本创作的另一目的,该本体内更有设于该吸入口与该本体内的连接处的一真空过滤网,借以达到真空过滤的目的。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1为本创作的立体图。

图2为本创作于第1图的准备状态的A-A剖面示意图。

图3为本创作于第1图的准备状态的B-B剖面示意图。

图4为本创作于第1图的准备状态的C-C剖面示意图。

图5为本创作于准备状态的回路示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾气立股份有限公司,未经台湾气立股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910262524.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top