[发明专利]一种减少芯片切割边缘崩边的工艺有效
申请号: | 201910263591.4 | 申请日: | 2019-04-03 |
公开(公告)号: | CN110021548B | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 杨雪松 | 申请(专利权)人: | 江苏纳沛斯半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67;H01L21/78 |
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地址: | 223002 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减少 芯片 切割 边缘 工艺 | ||
1.一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:该工艺主要包括以下步骤:
步骤a:下料,选取一片晶圆;
步骤b:将晶圆背面覆盖一层背胶,然后在晶圆表面设置硅片,而后在硅片表面设置凸块引脚,以制成芯片;
步骤c:将步骤b制成的芯片放入烤箱中,而后将烤箱温度设定为120℃,使芯片在120℃的环境中烘烤两小时,进行一次固化,固化后继续进行植球、激光打标工序;
步骤d:将步骤c完成后的芯片再度放入烤箱中,此时烤箱温度设定在90-100℃之间,时间为一小时,进行二次固化;
步骤e:将步骤d固化后的芯片放入切割机中,而后设定程序,并沿着切割道的方向依次进行切割;
步骤f:对步骤e切割后的产品进行检验。
2.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤b中背胶为环氧树脂材料,且采用涂布或粘贴的方式将背胶覆盖在晶圆的背面。
3.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤b中硅片的内部含有内部逻辑电路和封装层。
4.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤d在进行二次固化时,增加固化处理的制程。
5.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤f中检验产品主要采用金像显微镜,先对产品进行光功能测试,再进行外观检验。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造