[发明专利]一种减少芯片切割边缘崩边的工艺有效

专利信息
申请号: 201910263591.4 申请日: 2019-04-03
公开(公告)号: CN110021548B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 杨雪松 申请(专利权)人: 江苏纳沛斯半导体有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/67;H01L21/78
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 223002 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 减少 芯片 切割 边缘 工艺
【权利要求书】:

1.一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:该工艺主要包括以下步骤:

步骤a:下料,选取一片晶圆;

步骤b:将晶圆背面覆盖一层背胶,然后在晶圆表面设置硅片,而后在硅片表面设置凸块引脚,以制成芯片;

步骤c:将步骤b制成的芯片放入烤箱中,而后将烤箱温度设定为120℃,使芯片在120℃的环境中烘烤两小时,进行一次固化,固化后继续进行植球、激光打标工序;

步骤d:将步骤c完成后的芯片再度放入烤箱中,此时烤箱温度设定在90-100℃之间,时间为一小时,进行二次固化;

步骤e:将步骤d固化后的芯片放入切割机中,而后设定程序,并沿着切割道的方向依次进行切割;

步骤f:对步骤e切割后的产品进行检验。

2.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤b中背胶为环氧树脂材料,且采用涂布或粘贴的方式将背胶覆盖在晶圆的背面。

3.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤b中硅片的内部含有内部逻辑电路和封装层。

4.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤d在进行二次固化时,增加固化处理的制程。

5.根据权利要求1所述的一种减少芯片切割边缘崩边的工艺,其特征在于:所述步骤f中检验产品主要采用金像显微镜,先对产品进行光功能测试,再进行外观检验。

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