[发明专利]一种新型触摸屏结构及其制作方法

权利要求书

1.一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1）制作上层玻璃基板和下层玻璃基板；

步骤2）将上层玻璃基板和下层玻璃基板通过密封胶封装，得到该新型触摸屏结构；

其中，所述步骤1）中上层玻璃基板制作，具体包括以下步骤：

步骤S1：在素玻璃基板表面上通过丝印工艺或者黄光工艺形成玻璃视窗区；

步骤S2：在玻璃视窗区溅镀ITO透明导电层Ⅰ，通过黄光工艺形成功能所需的线路图案；

步骤S3：在玻璃视窗区涂布透明的光反应性材料支撑层，通过黄光工艺形成光反应性材料阵列；

所述步骤1）中下层玻璃基板制作包括在与上层玻璃基板可视区匹配的区域溅镀ITO透明导电层Ⅱ，并形成功能所需的线路图案；

其中：所述透明的光反应性材料支撑层的穿透率≥97%；所述透明的光反应性材料支撑层的厚度为5~8um；所述光反应性材料阵列位于ITO透明导电层Ⅰ和ITO透明导电层Ⅱ之间。

2.根据权利要求1所述的一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，

所述步骤1）中下层玻璃基板制作，还包括以下步骤：

在素玻璃基板表面上溅镀形成消隐层；

在与上层玻璃基板非可视区匹配的区域溅镀金属层形成金属线路功能图案。

3.根据权利要求1所述的一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，步骤S3中在玻璃视窗区涂布透明的光反应性材料支撑层，通过黄光工艺形成光反应性材料阵列；具体步骤为：首先，涂布光反应性材料支撑层，通过涂布机对光反应性材料以40~60mm/s的速度进行涂布，其中刀头与产品间距为0.12~0.18μm，压力为0.07~0.13MPa，完成涂布之后需要对其预烤，温度设定值90~110℃，预烤时间为45~55S；然后进行曝光，选择的曝光能量为100~140mj/cm²，并保持间距值250~350um的距离，通过光反应性材料光罩进行曝光形成所需的图案后，接下来需要将未曝光的部分通过显影的方式洗掉，最后形成光反应性材料阵列。

4.根据权利要求1所述的一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述步骤2）中先将上层玻璃基板和下层玻璃基板切割，然后将上下层玻璃基板进行柔性印刷电路板绑定，最后将上层玻璃基板和下层玻璃基板通过密封胶封装。

5.根据权利要求4所述的一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，将上层玻璃基板和下层玻璃基板通过密封胶封装，具体步骤为：柔性印刷电路板绑定制程后，通过点胶机对下层玻璃基板四周涂布一圈，设定封装针头型号为15~21号，针头距产品高度为4~6mm，点胶速度控制在6~8mm/s，点胶压力为200~350KPa，将上下两块玻璃基板有膜面对位封装形成一个密封的触摸结构，进行压合后以2200~4000mj/cm²UV光固化。

6.根据权利要求4所述的一种新型触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述柔性印刷电路板通过导电胶分别与上层玻璃基板的ITO透明导电层Ⅰ和下层玻璃基板的金属层连接。

7.一种新型触摸屏结构，其特征在于，采用如权利要求1-6任意一项所述的制作方法得到；所述新型触摸屏结构为由下层玻璃基板和上层玻璃基板封装成的结构；

所述上层玻璃基板包括素玻璃基板、打底油墨层、ITO透明导电层Ⅰ和透明的光反应性材料支撑层，打底油墨层设置在素玻璃基板的下表面四周，素玻璃基板中间区域形成玻璃视窗区；ITO透明导电层Ⅰ和透明的光反应性材料支撑层依次层叠设置在素玻璃基板的下表面上且均位于玻璃视窗区内。

8.根据权利要求7所述的新型触摸屏结构，其特征在于，所述下层玻璃基板包括素玻璃基板、消隐层、ITO透明导电层Ⅱ和金属线路导电层；所述消隐层设置在下层玻璃基板的上表面上且与所述玻璃视窗区相对应设置；ITO透明导电层Ⅱ层叠设置在所述消隐层下表面上，金属线路导电层与ITO透明导电层Ⅱ相连且位于非可视区；所述上层玻璃基板的ITO透明导电层Ⅰ和下层玻璃基板的金属线路导电层通过柔性印刷电路板连接。