[发明专利]一种流体控制设备

权利要求书

1.一种流体控制设备，其特征在于，包括：

缸体、第一换向阀、第二换向阀、第一外缸体和第二外缸体；

所述第一换向阀安装在所述缸体的上部、所述第二换向阀安装在所述缸体的下部，将所述缸体内部分为上腔、中腔和下腔；

所述上腔与上排水管头贯通、所述中腔与进水管头贯通、所述下腔与下排水管头贯通；

所述第一外缸体、所述第二外缸体套在所述缸体外侧，所述第一外缸体位于所述上腔和所述中腔之间，所述第二外缸体位于所述中腔和所述下腔之间；

所述第一外缸体通过所述缸体上的第一条形孔组与所述缸体连通，所述第一外缸体上设有上接管头；所述第一条形孔组包括多个在所述缸体圆周面上均匀分布的第一条形孔；所述多个第一条形孔的开孔面积相同，且端部对齐；

所述第二外缸体通过所述缸体上的第二条形孔组与所述缸体连通，所述第二外缸体上设有下接管头；所述第二条形孔组包括多个在所述缸体圆周面上均匀分布的第二条形孔；所述多个第一条形孔的开孔面积相同，且端部对齐；

所述第一换向阀的第一活塞呈圆柱状，所述第一活塞的圆周面上下两端对称设有第一上凹槽组和第一下凹槽组，所述第一上凹槽组、所述第一下凹槽组与所述第一条形孔组相匹配；

所述第二换向阀的第二活塞呈圆柱状，所述第二活塞的圆周面上下两端对称设有第二上凹槽组和第二下凹槽组，所述第二上凹槽组、所述第二下凹槽组与所述第二条形孔组相匹配。

2.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于：

所述缸体、所述第一外缸体、所述第二外缸体均为圆柱状空腔结构；所述第一外缸体、所述第二外缸体在所述缸体上偏心安装，轴线与所述缸体的轴线平行；所述上接管头出口端面与所述第一外缸体轴线的距离小于所述上接管头出口端面与所述缸体轴线的距离；所述下接管头出口端面与所述第二外缸体轴线的距离小于所述下接管头出口端面与所述缸体轴线的距离。

3.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于：

所述上接管头位于所述第一条形孔的上方；所述下接管头位于所述第二条形孔的下方。

4.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于：

所述第一上凹槽组包括多个第一上凹槽，多个所述第一上凹槽的长度渐变设置，端部以形成波峰和波谷；

所述第一下凹槽组包括多个第一下凹槽，多个所述第一下凹槽的长度渐变设置，端部以形成波峰和波谷；

所述第一上凹槽组的第一上端波峰与所述第一下凹槽组的第一下端波谷相对应，所述第一上凹槽组的第一上端波谷与所述第一下凹槽组的第一下端波峰相对应；

所述第一上端波峰与所述第一下端波谷之间的距离、所述第一上端波谷与所述第一下端波峰之间的距离均大于所述第一条形孔的长度；

所述第二上凹槽组包括多个第二上凹槽，多个所述第二上凹槽的长度渐变设置，端部以形成波峰和波谷；

所述第二下凹槽组包括多个第二下凹槽，多个所述第二下凹槽的长度渐变设置，端部以形成波峰和波谷；

所述第二上凹槽组的第二上端波峰与所述第二下凹槽组的第二下端波谷相对应，所述第二上凹槽组的第二上端波谷与所述第二下凹槽组的第二下端波峰相对应；

所述第二上端波峰与所述第二下端波谷之间的距离、所述第二上端波谷与所述第二下端波峰之间的距离均大于所述第二条形孔的长度。

5.根据权利要求4所述的流体控制设备，其特征在于：

在所述缸体的轴线方向上，所述上排水管头与所述第一条形孔组之间的距离大于所述第一活塞的长度；所述下排水管头与所述第二条形孔组之间的距离大于所述第二活塞的长度。

6.根据权利要求4所述的流体控制设备，其特征在于：

在所述缸体的轴线方向上，所述第一条形孔组与所述进水管头之间的距离大于所述第一活塞的长度；所述第二条形孔组与所述进水管头之间的距离大于所述第二活塞的长度。

7.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于：

在所述第一换向阀上、与所述第一活塞相连的第一活塞杆还与第一执行器相连；

在所述第二换向阀上、与所述第二活塞相连的第二活塞杆还与第二执行器相连。

8.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于：

所述缸体两端对称设有第一端部法兰和第二端部法兰。