[发明专利]液晶无机配向薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 201910270034.5 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN110109293A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 张宇 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 配向 薄膜 液晶 膜层 锶氧 镧钇 烘烤 制造 硝酸钇溶液 硝酸锶溶液 硝酸镧溶液 氧化铟锡层 介电常数 静置反应 溶液反应 溶液涂布 涂布步骤 带隙 混和 | ||
1.一种液晶无机配向薄膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
混和步骤，包括将硝酸镧溶液、硝酸钇溶液、以及硝酸锶溶液放置到一容器中，并且搅拌混合所述硝酸镧溶液、所述硝酸钇溶液、以及所述硝酸锶溶液达一段搅拌时间；
静置反应步骤，包括将搅拌混合后的硝酸镧溶液、硝酸钇溶液、以及硝酸锶溶液静置达一段静置时间，以使所述硝酸镧溶液、所述硝酸钇溶液、以及所述硝酸锶溶液反应生成包括镧钇锶氧以及硝酐的配向溶液；
涂布步骤，包括将所述配向溶液涂布到一氧化铟锡层的表面上以形成一包括镧钇锶氧以及硝酐的膜层；以及
烘烤步骤，包括对所述膜层进行烘烤以使所述膜层中的镧钇锶氧结晶而形成一液晶无机配向薄膜。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：在所述混合步骤是在至少摄氏75度的条件下执行。
3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述混合步骤的所述搅拌时间为至少2小时。
4.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述静置反应步骤是在空气中进行，且所述静置反应步骤中的所述静置时间是至少24小时。
5.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述涂布步骤是以采用旋涂方式进行。
6.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述烘烤步骤包括主烘烤步骤，所述主烘烤步骤是在摄氏400至800度的条件下烘烤所述膜层。
7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于：所述主烘烤步骤是在摄氏500度的条件下烘烤所述膜层。
8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于：所述主烘烤步骤包括烘烤所述膜层至少达3小时。
9.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述烘烤步骤包括预先烘烤步骤以及主烘烤步骤；所述预先烘烤步骤是在至少摄氏100度的条件下烘烤所述膜层；所述主烘烤步骤是在所述预先烘烤步骤后执行，且是在摄氏500度的条件下烘烤所述膜层。
10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于：所述预先烘烤步骤包括烘烤所述膜层至少达5分钟；所述主烘烤步骤包括烘烤所述膜层至少达3小时。
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