[发明专利]阵列基板修补系统及其方法

说明书

一种阵列基板修补系统及其方法，其中所述阵列基板修补系统包括第一电性量测站、镭射修补机、镭射长线机及研磨机。第一电性量测站量测所述阵列基板是否存在缺陷，所述缺陷包括点缺陷、断线缺陷和粒子缺陷。镭射修补机对具有所述点缺陷的所述阵列基板进行修补，并分流其余非具有所述点缺陷的所述阵列基板。镭射长线机对具有所述断线缺陷的所述阵列基板并进行长线修补。研磨机对具有所述粒子缺陷的所述阵列基板进行研磨。借此，通过所述研磨机的研磨修补取代所述镭射长线机的长线修补，降低所述镭射长线机的工作量，从而提升产能与生产效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种阵列基板修补系统及其方法。

背景技术

随着经济的快速发展，人们对电视机显示效果需求越来越高。液晶面板厂商的生产设备价格也是极其昂贵，如何在现有设备数量上同时不影响良率效果的前提下，将生产能力最大化满足市场刚需，已成为液晶面板生产厂商的重要难题。

以现有的液晶面板生产设备而言，T400(Laser CVD)站点作为薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)阵列测试区的一个长线站点。T400主要原理是利用气相沉积(chemicalvapor deposition，CVD)原理，将金属材料沉积在各种不同的阵列制程材质上。T400主要用途是针对会造成断线的缺陷(defect)进行修补，以减少线缺陷对产品的损失，进而提高良率。然而在现有的生产流程中，通过T200(array test)电性检测结果为断路类型的线缺陷并通过T300(final repair)而无法修补的线缺陷进行长线修补。

T400的设备数量会根据最大产能的进片率估算购买，一般生产商为节省成本和提升生产空间利用率而压缩购买设备数量，从而导致T400站点生产压力过大，造成长期堆积的现象，因此T400长线站点长期成为生产瓶颈。有鉴于此，有必要提供一种阵列基板修补系统及其方法，来解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阵列基板修补系统及基板检测方法，通过所述研磨机的研磨修补取代所述镭射长线机的长线修补，降低所述镭射长线机的工作量，即降低因长线修补堆积带来的产能损失和时间成本，从而提升产能与生产效率。

为达成本发明的前述目的，本发明提供一种阵列基板修补系统，包括第一电性量测站、镭射修补机、镭射长线机及研磨机。第一电性量测站量测所述阵列基板是否存在缺陷，所述缺陷包括点缺陷、断线缺陷和粒子缺陷。镭射修补机连接所述第一电性量测站，对具有所述点缺陷的所述阵列基板进行修补，所述镭射修补机分流其余非具有所述点缺陷的所述阵列基板。镭射长线机连接所述镭射修补机，对具有所述断线缺陷的所述阵列基板并进行长线修补。研磨机连接所述镭射修补机，对具有所述粒子缺陷的所述阵列基板进行研磨。

在本发明的一实施例中，所述粒子缺陷叠设在薄膜晶体管的金属导线上，所述粒子缺陷通过所述研磨机的激光磨低或磨除，使所述金属导线保持电性导通。

在本发明的一实施例中，在所述栅极扫描线或所述源漏极数据线上的开口部熔接修补成U或I字型长线，使得断开的所述栅极扫描线或所述源漏极数据线恢复电性连接。

在本发明的一实施例中，还包括:

虚拟做账站，分别接收从所述镭射长线机和所述研磨机修补后的所述阵列基板；

分出重测站，连接所述虚拟做账站并检测出异常的所述阵列基板；

第二电性量测站，连接所述分出重测站并对上述异常的所述阵列基板再次量测；以及

出货站，连接所述分出重测站，当所述分出重测站检测所述阵列基板正常时，即通过所述出货站出货。

在本发明的一实施例中，，所述第二电性量测站还连接所述镭射修补机，通过所述镭射修补机进行所述点缺陷的修补，并根据所述缺陷种类再次分流至所述镭射长线机或所述研磨机。